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納米尺度光場(chǎng)相位分布測(cè)量裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種納米尺度光場(chǎng)相位分布測(cè)量裝置，包括：掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡模塊用于實(shí)現(xiàn)納米尺度空間分辨率的掃描和信號(hào)采集，外差干涉光路模塊用于產(chǎn)生能被處理的低頻拍信號(hào)，為實(shí)現(xiàn)相位解調(diào)提供可能性。顯微觀測(cè)對(duì)準(zhǔn)模塊用于監(jiān)測(cè)針尖掃描狀態(tài)并輔助實(shí)現(xiàn)針尖，樣品和照明光的對(duì)準(zhǔn)。信號(hào)采集與同步解調(diào)模塊可以控制探針以納米精度和步距進(jìn)行掃描，并實(shí)時(shí)對(duì)收集到的信號(hào)進(jìn)行解調(diào)，輸出對(duì)應(yīng)點(diǎn)的光場(chǎng)振幅和相位信息。信號(hào)處理與存儲(chǔ)顯示模塊將測(cè)量的結(jié)果采集存儲(chǔ)，在計(jì)算機(jī)生成同步的空間位置拓?fù)湫蚊矆D以及對(duì)應(yīng)的光場(chǎng)振幅，相位分布圖。能夠?qū)崿F(xiàn)空間任意高度截面的場(chǎng)分布測(cè)量和3D立體場(chǎng)分布測(cè)量。
【專利說(shuō)明】納米尺度光場(chǎng)相位分布測(cè)量裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及納米光學(xué)和納米光子學(xué)測(cè)量領(lǐng)域，尤其涉及一種納米尺度光場(chǎng)相位分布測(cè)量裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]納米光子的研究近年來(lái)已經(jīng)迅速成為國(guó)際上的前沿和熱點(diǎn)，對(duì)納米光子學(xué)器件的深入研究需要建立在對(duì)其納米光場(chǎng)的多種物理參數(shù)和光學(xué)特性進(jìn)行定量測(cè)量的基礎(chǔ)上。
[0003]近場(chǎng)光學(xué)方法和技術(shù)為此提供了強(qiáng)有力的工具。掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡(SNOM)出現(xiàn)后，已經(jīng)被廣泛地應(yīng)用在納米光學(xué)研究領(lǐng)域。它具有亞波長(zhǎng)量級(jí)的超高空間分辨率，同時(shí)能夠探測(cè)樣品的光場(chǎng)特性。
[0004]現(xiàn)有的近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡大多能獲得樣品的形貌和光強(qiáng)分布，尚不能測(cè)量相位分布。而相位分布可以反映出更多強(qiáng)度所不能反映的信息。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明實(shí)施例提供一種納米尺度光場(chǎng)相位分布測(cè)量裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)納米光子學(xué)器件近場(chǎng)拓?fù)湫蚊玻鈭?chǎng)振幅和相位分布的同步掃描成像測(cè)量。
[0006]本發(fā)明實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0007]—種納米尺度光場(chǎng)相位分布測(cè)量裝置，包括:掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡模塊，外差干涉光路模塊，顯微觀測(cè)對(duì)準(zhǔn)模塊，信號(hào)采集與同步解調(diào)模塊，信號(hào)處理與存儲(chǔ)顯示模塊；
[0008]所述掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡模塊包括掃描臺(tái)、掃描頭、控制箱，近場(chǎng)光學(xué)探針；
[0009]所述掃描臺(tái)包括:一個(gè)二維電動(dòng)控制掃描臺(tái)，承載掃描頭，用于樣品的快速搜索定位和大尺寸測(cè)量范圍拼接，一個(gè)壓電陶瓷三維掃描臺(tái)，用于承載樣品，可以獨(dú)立掃描，還有一個(gè)三維手動(dòng)樣品臺(tái)，能夠?qū)崿F(xiàn)樣品X，Y方向微調(diào)和面內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，三個(gè)掃描臺(tái)均可以獨(dú)立控制；
[0010]所述近場(chǎng)光學(xué)探針固定于所述掃描頭的夾持器上，掃描頭置于待測(cè)樣品的上方，能夠驅(qū)動(dòng)探針進(jìn)行獨(dú)立掃描；
[0011]所述控制箱包含兩個(gè)獨(dú)立的控制器，一個(gè)用于控制高精度壓電陶瓷掃描臺(tái)，另一個(gè)用于控制掃描頭以納米精度和步距掃描；
[0012]所述外差干涉光路模塊包括:照明激發(fā)光源，光束整形單元，偏振控制單元，分光鏡，聲光移頻器，光纖耦合器，傳導(dǎo)光纖，外差干涉采用空間光和光纖相結(jié)合的特殊光路架構(gòu)，信號(hào)采集傳輸采用光纖光路提高抗干擾性，樣品照明采用空間光路能夠?qū)崿F(xiàn)變角度照明、隱失場(chǎng)耦合照明、聚焦光斑和偏振態(tài)照明激發(fā)模式；
[0013]所述顯微觀測(cè)對(duì)準(zhǔn)模塊包括:長(zhǎng)工作距可變倍視頻顯微鏡、CXD攝像頭、照明光源；視頻顯微鏡能夠?qū)崿F(xiàn)三維對(duì)準(zhǔn)和調(diào)焦，照明光源能夠切換同軸照明和傾斜入射照明；
[0014]所述信號(hào)采集與同步解調(diào)模塊，包括光電探測(cè)器，相位解調(diào)模塊，鎖相參考信號(hào)發(fā)生器；用于高速采集當(dāng)前位置的光場(chǎng)信息，經(jīng)過(guò)解調(diào)處理，輸出對(duì)應(yīng)點(diǎn)的光場(chǎng)振幅和相位信息；
[0015]所述信號(hào)處理與存儲(chǔ)顯示模塊，用于根據(jù)輸出的光場(chǎng)振幅和相位信息，生成同步的空間位置拓?fù)湫蚊矆D以及對(duì)應(yīng)的光場(chǎng)振幅，相位分布圖，而且能夠?qū)崿F(xiàn)空間任意高度截面的場(chǎng)分布測(cè)量和3D立體場(chǎng)分布測(cè)量。
[0016]可選的，所述近場(chǎng)光學(xué)探針為鍍金屬膜光纖孔徑探針，或者金屬針尖、鍍金屬針尖、納米結(jié)構(gòu)光學(xué)天線，或經(jīng)過(guò)納米顆粒方法修飾的等離激元功能探針，其中，金屬膜層材料為金、銀、鋁；納米顆粒為具有貴金屬核殼結(jié)構(gòu)層的納米顆粒，包括金納米顆粒、銀納米顆粒。
[0017]所述外差干涉光路模塊包括:照明激發(fā)光源，光束整形單元，偏振控制單元，分光鏡，聲光移頻器，光纖耦合器，傳導(dǎo)光纖，外差干涉采用空間光和光纖相結(jié)合的特殊光路架構(gòu)，信號(hào)采集傳輸采用光纖光路提高抗干擾性，樣品照明采用空間光路能夠?qū)崿F(xiàn)的偏振態(tài)激發(fā)模式包括變角度、隱失場(chǎng)照明、聚焦光斑和圓偏振，旋轉(zhuǎn)偏振光、線偏振，切向偏振，徑向偏振；
[0018]所述照明激發(fā)光源發(fā)出的光經(jīng)過(guò)光束整形單元后成為平行光束，再經(jīng)過(guò)偏振狀態(tài)控制單元變?yōu)樗璧钠駹顟B(tài)，經(jīng)過(guò)分光器單元后變?yōu)閮墒?參考光和信號(hào)光，兩束光經(jīng)過(guò)聲光移頻單元后分別產(chǎn)生Q1和ω2的頻移，其中參考光路直接耦合到光纖中，測(cè)量光路照射在樣品上，利用光纖探針收集樣品表面光場(chǎng)信息，測(cè)量光與參考光在光纖耦合器中進(jìn)行干涉，將干涉的光強(qiáng)信號(hào)接入光電探測(cè)器轉(zhuǎn)化為電信號(hào)。
[0019]可選的，所述樣品照明激發(fā)光源為激光器或激光二極管，波長(zhǎng)為紫外，可見(jiàn)光，近紅外。
[0020]所述光束整形單元在激發(fā)光光路方向上依次設(shè)有光隔離器、空間濾波器、光束轉(zhuǎn)折器、四分之一波片和半波片。
[0021]可選的，所述偏振控制單元位于所述分光器單元之前，或者位于所述分光器單元之后，入射到樣品之iu ；
[0022]所述偏振控制單元為波片組合，或者所述偏振控制單元為空間光調(diào)制器；可以在空間光路產(chǎn)生線偏振，圓偏振，旋轉(zhuǎn)偏振、徑向偏振，切線偏振光束，入射到樣品平面的光為準(zhǔn)直的光束或者聚焦的光斑。
[0023]所述顯微觀測(cè)對(duì)準(zhǔn)模塊包括:長(zhǎng)工作距可變倍顯微鏡筒、軸向調(diào)焦和二維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、照明光源以及CCD攝像頭，所述軸向調(diào)焦和二維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的底部固定在所述樣品臺(tái)上，其上部用于固定變倍顯微鏡筒，所述照明光源能夠切換同軸照明或傾斜入射照明，所述CCD攝像頭固定在變倍顯微鏡筒的上方并與所述計(jì)算機(jī)連接。
[0024]信號(hào)采集與同步解調(diào)模塊包括光電探測(cè)器，相位解調(diào)模塊，鎖相參考信號(hào)發(fā)生器；
[0025]所述光電探測(cè)器為光電倍增管，或者所述光電探測(cè)器為雪崩二極管；
[0026]所述相位解調(diào)模塊為商用鎖相放大器，或者所述相位解調(diào)模塊為基于鎖相放大器原理搭建的相位解調(diào)模塊。
[0027]可選的，所述鎖相參考信號(hào)發(fā)生器用于產(chǎn)生解調(diào)所需的參考信號(hào)為來(lái)源于移頻器輸出的電信號(hào)，或者來(lái)源于外差干涉儀的光外差信號(hào)。
[0028]可選的，所述相位解調(diào)模塊能夠?qū)崿F(xiàn)以下至少一種解調(diào)方式:[0029]使用光外差頻率直接解調(diào)，選擇外差頻率的高次諧波解調(diào)，將探針振動(dòng)頻率的高次諧波與外差頻率高次諧波混頻后作為參考信號(hào)解調(diào)。
[0030]基于上述技術(shù)方案，本發(fā)明實(shí)施例的納米尺度光場(chǎng)相位分布測(cè)量裝置，對(duì)待測(cè)樣品以納米精度和步距進(jìn)行掃描，輸出對(duì)應(yīng)點(diǎn)的光場(chǎng)振幅和相位信息，根據(jù)輸出的光場(chǎng)振幅和相位信息，生成同步的空間位置拓?fù)湫蚊矆D以及對(duì)應(yīng)的光場(chǎng)振幅，相位分布圖。從而實(shí)現(xiàn)納米光子學(xué)器件近場(chǎng)拓?fù)湫蚊?，光?chǎng)振幅和相位分布的同步掃描成像測(cè)量。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0031]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作一簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0032]圖1為本發(fā)明實(shí)施例的納米尺度光場(chǎng)相位分布測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]其中:11、照明激發(fā)光源；12、光束整形單元；13、偏振控制單元；14、分光器；15、移頻器；16、光纖稱合模塊；21、掃描頭；22、光纖孔徑探針；23、掃描顯微鏡控制箱；24、掃描臺(tái)；31、光電探測(cè)器；32、鎖相參考信號(hào)發(fā)生模塊；33、相位解調(diào)模塊；41、數(shù)據(jù)采集模塊；42、計(jì)算機(jī)；51、視頻顯微鏡筒；52、(XD。
[0034]圖2為本發(fā)明實(shí)施例的掃描臺(tái)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0035]其中:241為大行程二維電動(dòng)位移臺(tái)；242為高精度小量程壓電陶瓷三維掃描臺(tái)；243為手動(dòng)樣品微調(diào)臺(tái)。
【具體實(shí)施方式】
[0036]為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0037]本發(fā)明實(shí)施例的納米尺度光場(chǎng)相位分布測(cè)量裝置具體實(shí)施時(shí)，包括掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡模塊，外差干涉光路模塊，顯微觀測(cè)對(duì)準(zhǔn)模塊，信號(hào)采集與同步解調(diào)模塊，信號(hào)處理與存儲(chǔ)顯不t旲塊。
[0038]所述掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡模塊用于實(shí)現(xiàn)納米尺度空間分辨率的掃描和信號(hào)采集，所述外差干涉光路模塊用于產(chǎn)生能被處理的低頻拍信號(hào)，為實(shí)現(xiàn)相位解調(diào)提供可能性。所述顯微觀測(cè)對(duì)準(zhǔn)模塊用于監(jiān)測(cè)針尖掃描狀態(tài)并輔助實(shí)現(xiàn)針尖，樣品和照明光的對(duì)準(zhǔn)。所述信號(hào)采集與同步解調(diào)模塊可以控制探針以納米精度和步距進(jìn)行掃描，并實(shí)時(shí)對(duì)收集到的信號(hào)進(jìn)行解調(diào)，輸出對(duì)應(yīng)點(diǎn)的光場(chǎng)振幅和相位信息。所述信號(hào)處理與存儲(chǔ)顯示模塊將測(cè)量的結(jié)果采集存儲(chǔ)，在計(jì)算機(jī)生成同步的空間位置拓?fù)湫蚊矆D以及對(duì)應(yīng)的光場(chǎng)振幅，相位分布圖。
[0039]其中，所述掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡探測(cè)模塊包括掃描頭、掃描臺(tái)、近場(chǎng)光學(xué)探針、控制箱，所述掃描頭置于待測(cè)樣品的上方，所述近場(chǎng)光學(xué)探針與夾持在掃描頭下方并位于待測(cè)樣品上方，光纖探針連接至光纖耦合器，并由控制箱控制探針的掃描運(yùn)動(dòng)。所述控制箱與計(jì)算機(jī)相連。
[0040]其中，所述外差干涉光路模塊在光路方向上依次設(shè)有:照明激發(fā)光源，光束整形單元，偏振控制單元，分光器單元，聲光移頻單元，光纖耦合單元。所述照明激發(fā)光源發(fā)出的光經(jīng)過(guò)光束整形單元后成為平行光束，再經(jīng)過(guò)偏振狀態(tài)控制單元變?yōu)樗璧钠駹顟B(tài)，經(jīng)過(guò)分光器單元后變?yōu)閮墒?參考光和信號(hào)光。兩束光經(jīng)過(guò)聲光移頻單元后分別產(chǎn)生O1和ω2的頻移，其中參考光路直接耦合到光纖中，測(cè)量光路照射在樣品上，利用光纖探針收集樣品表面光場(chǎng)信息，測(cè)量光與參考光在光纖稱合器中進(jìn)行干涉。參考光和測(cè)量光的電場(chǎng)表達(dá)式可以描述為:
[0041]
【權(quán)利要求】
1.一種納米尺度光場(chǎng)相位分布測(cè)量裝置，其特征在于，包括:掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡模塊，外差干涉光路模塊，顯微觀測(cè)對(duì)準(zhǔn)模塊，信號(hào)采集與同步解調(diào)模塊，信號(hào)處理與存儲(chǔ)顯示模塊； 所述掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡模塊包括掃描臺(tái)、掃描頭、控制箱，近場(chǎng)光學(xué)探針； 所述掃描臺(tái)包括:一個(gè)二維電動(dòng)控制掃描臺(tái)，承載掃描頭，用于樣品的快速搜索定位和大尺寸測(cè)量范圍拼接，一個(gè)壓電陶瓷三維掃描臺(tái)，用于承載樣品，可以獨(dú)立掃描，還有一個(gè)三維手動(dòng)樣品臺(tái)，能夠?qū)崿F(xiàn)樣品X，Y方向微調(diào)和面內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，三個(gè)掃描臺(tái)均可以獨(dú)立控制；所述近場(chǎng)光學(xué)探針固定于所述掃描頭的夾持器上，掃描頭置于待測(cè)樣品的上方，能夠驅(qū)動(dòng)探針進(jìn)行獨(dú)立掃描； 所述控制箱包含兩個(gè)獨(dú)立的控制器，一個(gè)用于控制高精度壓電陶瓷掃描臺(tái)，另一個(gè)用于控制掃描頭以納米精度和步距掃描； 所述外差干涉光路模塊包括:照明激發(fā)光源，光束整形單元，偏振控制單元，分光鏡，聲光移頻器，光纖耦合器，傳導(dǎo)光纖，外差干涉采用空間光和光纖相結(jié)合的特殊光路架構(gòu)，信號(hào)采集傳輸采用光纖光路提高抗干擾性，樣品照明采用空間光路能夠?qū)崿F(xiàn)變角度照明、隱失場(chǎng)耦合照明、聚焦光斑和偏振態(tài)照明激發(fā)模式； 所述顯微觀測(cè)對(duì)準(zhǔn)模塊包括:長(zhǎng)工作距可變倍視頻顯微鏡、CXD攝像頭、照明光源；視頻顯微鏡能夠?qū)崿F(xiàn)三維對(duì)準(zhǔn)和調(diào)焦，照明光源能夠切換同軸照明和傾斜入射照明； 所述信號(hào)采集與同步解調(diào)模塊，包括光電探測(cè)器，相位解調(diào)模塊，鎖相參考信號(hào)發(fā)生器；用于高速采集當(dāng)前位置的光場(chǎng)信息，經(jīng)過(guò)解調(diào)處理，輸出對(duì)應(yīng)點(diǎn)的光場(chǎng)振幅和相位信息； 所述信號(hào)處理與存儲(chǔ)顯示模塊，用于根據(jù)輸出的光場(chǎng)振幅和相位信息，生成同步的空間位置拓?fù)湫蚊矆D以及對(duì)應(yīng)的光場(chǎng)振幅，相位分布圖，而且能夠?qū)崿F(xiàn)空間任意高度截面的場(chǎng)分布測(cè)量和3D立體場(chǎng)分布測(cè)量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述近場(chǎng)光學(xué)探針為鍍金屬膜光纖孔徑探針，或者金屬針尖、鍍金屬針尖、納米結(jié)構(gòu)光學(xué)天線，或經(jīng)過(guò)納米顆粒方法修飾的等離激元功能探針，其中，金屬膜層材料為金、銀、鋁；納米顆粒為具有貴金屬核殼結(jié)構(gòu)層的納米顆粒，包括金納米顆粒、銀納米顆粒。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述外差干涉光路模塊包括:照明激發(fā)光源，光束整形單元，偏振控制單元，分光鏡，聲光移頻器，光纖耦合器，傳導(dǎo)光纖，外差干涉采用空間光和光纖相結(jié)合的特殊光路架構(gòu)，信號(hào)采集傳輸采用光纖光路提高抗干擾性，樣品照明采用空間光路能夠?qū)崿F(xiàn)的偏振態(tài)激發(fā)模式包括變角度、隱失場(chǎng)照明、聚焦光斑和圓偏振，旋轉(zhuǎn)偏振光、線偏振，切向偏振，徑向偏振； 所述照明激發(fā)光源發(fā)出的光經(jīng)過(guò)光束整形單元后成為平行光束，再經(jīng)過(guò)偏振狀態(tài)控制單元變?yōu)樗璧钠駹顟B(tài)，經(jīng)過(guò)分光器單元后變?yōu)閮墒?參考光和信號(hào)光，兩束光經(jīng)過(guò)聲光移頻單元后分別產(chǎn)生Q1和ω2的頻移，其中參考光路直接耦合到光纖中，測(cè)量光路照射在樣品上，利用光纖探針收集樣品表面光場(chǎng)信息，測(cè)量光與參考光在光纖耦合器中進(jìn)行干涉，將干涉的光強(qiáng)信號(hào)接入光電探測(cè)器轉(zhuǎn)化為電信號(hào)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述樣品照明激發(fā)光源為激光器或激光二極管，波長(zhǎng)為紫外，可見(jiàn)光，近紅外。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，光束整形單元在激發(fā)光光路方向上依次設(shè)有光隔離器、空間濾波器、光束轉(zhuǎn)折器、四分之一波片和半波片。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述偏振控制單元位于所述分光器單元之前，或者位于所述分光器單元之后，入射到樣品之前； 所述偏振控制單元為波片組合，或者所述偏振控制單元為空間光調(diào)制器；可以在空間光路產(chǎn)生線偏振，圓偏振，旋轉(zhuǎn)偏振、徑向偏振，切線偏振光束，入射到樣品平面的光為準(zhǔn)直的光束或者聚焦的光斑。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述顯微觀測(cè)對(duì)準(zhǔn)模塊包括:長(zhǎng)工作距可變倍顯微鏡筒、軸向調(diào)焦和二維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、照明光源以及CCD攝像頭，所述軸向調(diào)焦和二維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的底部固定在所述樣品臺(tái)上，其上部用于固定變倍顯微鏡筒，所述照明光源能夠切換同軸照明或傾斜入射照明，所述CCD攝像頭固定在變倍顯微鏡筒的上方并與所述計(jì)算機(jī)連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，信號(hào)采集與同步解調(diào)模塊包括光電探測(cè)器，相位解調(diào)模塊，鎖相參考信號(hào)發(fā)生器； 所述光電探測(cè)器為光電倍增管，或者所述光電探測(cè)器為雪崩二極管； 所述相位解調(diào)模塊為商用鎖相放大器，或者所述相位解調(diào)模塊為基于鎖相放大器原理搭建的相位解調(diào)模塊。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，所述鎖相參考信號(hào)發(fā)生器用于產(chǎn)生解調(diào)所需的參考信號(hào)為來(lái) 源于移頻器輸出的電信號(hào)，或者來(lái)源于外差干涉儀的光外差信號(hào)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，所述相位解調(diào)模塊能夠?qū)崿F(xiàn)以下至少一種解調(diào)方式: 使用光外差頻率直接解調(diào)，選擇外差頻率的高次諧波解調(diào)，將探針振動(dòng)頻率的高次諧波與外差頻率高次諧波混頻后作為參考信號(hào)解調(diào)。
【文檔編號(hào)】G01J1/42GK104006891SQ201410236054
【公開(kāi)日】2014年8月27日 申請(qǐng)日期:2014年5月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月29日
【發(fā)明者】王佳, 武曉宇, 孫琳, 譚峭峰, 白本鋒 申請(qǐng)人:清華大學(xué)