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用于處理組織樣本的方法【專(zhuān)利摘要】一種處理組織樣本的方法，其包括將至少一個(gè)組織樣本置于盒上，所述盒具有：保持構(gòu)件、基座和至少一個(gè)偏壓元件；將該至少一個(gè)組織樣本置于組織盒中；將基座和保持構(gòu)件附連以保持組織樣本；在組織盒中通過(guò)一種或多種溶劑來(lái)處理組織樣本；以及將組織樣本包埋在石蠟中以形成石蠟的組織樣本在組織盒中包埋于其內(nèi)的部分，所述包埋包括將熔融石蠟添加至組織盒的內(nèi)部區(qū)域內(nèi)，并使得石蠟變凝固。本發(fā)明的處理、固定以及在組織盒包埋組織樣本的方法減少了組織樣本的手動(dòng)操作?！緦?zhuān)利說(shuō)明】用于處理組織樣本的方法【
技術(shù)領(lǐng)域：
】[0001]本發(fā)明總體上涉及一種將組織樣本包埋到組織盒中的方法和過(guò)程?！?br>背景技術(shù)：
】[0002]活組織檢查是指取出組織樣本，以檢查組織的癌癥或其他病癥的跡象。組織樣本可以通過(guò)多種方式獲得，其中會(huì)用到各種的醫(yī)學(xué)療程，而療程中會(huì)需要用到各種的組織樣本采集裝置。例如，活組織檢查可以是開(kāi)放式的(通過(guò)外科手術(shù)取出組織)或經(jīng)皮的(例如，通過(guò)細(xì)針抽吸、針芯活檢、或真空輔助活檢)。[0003]采集了組織樣本后，該組織樣本在為了進(jìn)行適當(dāng)試驗(yàn)(諸如組織學(xué)分析)而建的實(shí)驗(yàn)室(例如，病理實(shí)驗(yàn)室、生物實(shí)驗(yàn)室等)進(jìn)行分析。盡管本公開(kāi)涉及一份樣本，應(yīng)該理解的是樣本這一術(shù)語(yǔ)能夠指代一份或多份樣本。[0004]為了準(zhǔn)確地處理組織樣本，可以執(zhí)行一連串的步驟，其包括:[0005]1、通過(guò)將組織樣本切割為用于分析的合適尺寸來(lái)獲得總樣本；[0006]2、將組織樣本固色以固定分子組分和/或阻止降解；[0007]3、將組織樣本包埋到包埋材料中，諸如固體石蠟；以及[0008]4、通過(guò)使用例如切片機(jī)來(lái)將所包埋樣本進(jìn)行切片。[0009]在傳統(tǒng)方法中，獲得總樣本步驟包括實(shí)驗(yàn)技術(shù)員將組織切割為用于分析的合適尺寸并將組織置于組織盒中。在固色階段，所述盒可以在樣本采集后短暫地暴露于固定劑或化學(xué)制品(例如，甲醛的水溶液，諸如福爾馬林)中。例如，美國(guó)專(zhuān)利第7，156，814號(hào)公開(kāi)了一種能夠經(jīng)受組織制備操作的盒。[0010]在組織樣本已經(jīng)被處理后，在傳統(tǒng)方法中，醫(yī)學(xué)專(zhuān)業(yè)人員將組織樣本從各個(gè)盒中移除以進(jìn)行包埋步驟。具體而言，醫(yī)學(xué)專(zhuān)業(yè)人員例如基于組織類(lèi)型或所需的剖面將組織樣本仔細(xì)地定向到含有諸如固體石蠟的包埋材料的模具中。一旦組織在模具中適當(dāng)?shù)囟ㄏ?，冷卻熔融材料以完全包埋組織樣本并保持其適當(dāng)定向。使用石蠟將樣本保持就位，而同時(shí)提供了均勻一致性來(lái)進(jìn)一步促進(jìn)切片。雖然使用了術(shù)語(yǔ)石蠟，該術(shù)語(yǔ)不是限制性的而僅描述了包埋介質(zhì)的實(shí)例。[0011]然后，移除組織樣本并通常使用切片機(jī)切成多個(gè)薄的切片(例如，2-25微米厚的切片)，用于進(jìn)一步的處理和觀察。組織樣本的這種切片、以及諸如著色的進(jìn)一步處理，通常有助于醫(yī)學(xué)專(zhuān)業(yè)人員在顯微鏡下準(zhǔn)確地評(píng)估組織樣本(例如，細(xì)胞和組織樣本的其他成分之間的診斷關(guān)系，或執(zhí)行其他評(píng)估)。[0012]當(dāng)前過(guò)程在獲得總樣本、包埋及加載步驟時(shí)需要人為干預(yù)。組織樣本的這些手動(dòng)處理會(huì)增加誤識(shí)別組織樣本、交叉污染組織樣本、或損失部分或整個(gè)樣本的可能性。另外地，一旦收集了組織樣本，手動(dòng)操縱的多個(gè)步驟通常會(huì)增加為每個(gè)樣本提供準(zhǔn)確評(píng)估的時(shí)間?！?br/>發(fā)明內(nèi)容】[0013]本發(fā)明提供了一種處理組織樣本的方法，其中所述組織樣本可以在獲得總樣本步驟期間定向并且在隨后包埋步驟期間保持該相同的定向。通過(guò)多個(gè)實(shí)施方式，本發(fā)明的處理、固定以及在組織盒包埋組織樣本的方法減少了組織樣本的手動(dòng)操作。本申請(qǐng)的示例實(shí)施方式可以解決上述所認(rèn)定問(wèn)題中的一個(gè)或多個(gè)。然而，本申請(qǐng)的實(shí)施方式無(wú)需解決、處理、或改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)。[0014]附圖簡(jiǎn)要說(shuō)明[0015]圖1A-1D示意了根據(jù)第一實(shí)施方式的組裝組織盒并將組織樣本置于組織盒中的方法；[0016]圖2示出了處于組裝狀態(tài)的組織盒的內(nèi)部剖視圖；[0017]圖3A-3B不意了將盒加載到隨后沉浸在固定劑中的載體；[0018]圖4A-4C示意了根據(jù)第一實(shí)施方式的包埋組織樣本的方法；[0019]圖5是根據(jù)可替代實(shí)施方式的組織盒的側(cè)視圖；[0020]圖6是根據(jù)第一實(shí)施方式的處于非組裝狀態(tài)的組織盒分解圖；[0021]圖7是上述實(shí)施方式的組織盒上的偏壓元件的剖面圖；[0022]圖8是根據(jù)另一實(shí)施方式的處于組裝狀態(tài)的組織盒的內(nèi)部側(cè)視圖。[0023]本發(fā)明的詳細(xì)描述[0024]在下面詳細(xì)描述中，將參考附圖，其中相似元件以相似數(shù)字指示。前面提到的附圖僅通過(guò)示意而非限制的方式表示，特定示例實(shí)施方式和實(shí)現(xiàn)方式與示例實(shí)施方式的原理一致。足夠詳細(xì)地描述這些實(shí)現(xiàn)方式以使得本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)嵤┦纠龑?shí)施方式，并且應(yīng)該理解的是，可以利用其他實(shí)施方式，以及能夠在不偏離本發(fā)明范圍的情況下做出結(jié)構(gòu)變化和/或各種元件的替代。下面詳細(xì)描述因此不能解釋為限制意義。[0025]現(xiàn)在將根據(jù)非限制性實(shí)施方式來(lái)描述用于處理、包埋、以及制備組織樣本2以在提取后進(jìn)行分析的方法的實(shí)例。[0026]用于實(shí)施本發(fā)明方法的組織盒I在圖1A-1D中示出，并且在名稱(chēng)為“TissueCassettewithBiasingElement(具有偏壓元件的組織盒)”的美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)第61/798,728號(hào)中公開(kāi)，其在此引入作為參考。如圖1A所示，組織盒I具有基座4。另外，可選地提供框架8以圍繞基座4的外周界?；?可具有密封構(gòu)件10，其形成框架8和基座4之間的液封。如圖1B所示，根據(jù)非限制性實(shí)施方式，組織樣本2置于組織盒I中。圖1C示意了組織盒I，其還包括設(shè)置用于裝入基座4和框架8內(nèi)部的保持構(gòu)件6。這樣，保持構(gòu)件6裝入框架8的內(nèi)周界內(nèi)，并通過(guò)鎖定構(gòu)件12鎖定就位，如圖1D所示。在組織盒已組裝并且附連之后，基座4和保持構(gòu)件6協(xié)作以保持組織樣本2，如下文所述。因此，在組織樣本2置于組織盒I內(nèi)時(shí)，組織樣本2可支撐在基座4上或保持構(gòu)件6上。[0027]圖2示出了根據(jù)非限制實(shí)施方式的組織盒I的近視圖。在該實(shí)施方式中，保持構(gòu)件6形成有緣邊部16和組織保持元件18，所述組織保持元件18具有對(duì)應(yīng)于第一組織配合面20的底面。基座4具有對(duì)應(yīng)于第二組織配合面14的底面。此外，在非限制實(shí)施方式中，保持構(gòu)件6包括偏壓元件22。[0028]通常，在基座4和保持構(gòu)件6如圖2所示配合時(shí)，內(nèi)部區(qū)域24限定在基座4和保持構(gòu)件6之間，其中第一組織配合面20和第二組織配合面14彼此面對(duì)。在配合前，組織樣本2以期望定向置于內(nèi)部區(qū)域24中，從而使得它支撐在保持構(gòu)件6的第一組織配合面20或基座4的第二組織配合面14上。在保持構(gòu)件6配合至基座4時(shí)，偏壓元件22將組織保持元件18的第一組織配合面20推向基座4的第二組織配合面14，從而將組織樣本2以選定取向牢固地保持在第一和第二組織配合面14、20之間，以使得它能夠稍后在組織盒I中被處理并包埋。[0029]在非限制實(shí)施方式中，第一組織配合面20可具有突起46，以在它一旦接觸組織樣本2后阻止朝向第二組織配合面移動(dòng)。作為附加的防范，如圖2所示，組織保持元件18也可具有突起46，其從組織保持元件18向下朝向基座4延伸。突起46用作死止擋件以阻止組織保持元件18延伸太遠(yuǎn)以及向下太猛地推到組織樣本2上或可能破壞組織樣本2。[0030]在圖3A-B中示出了通過(guò)一種或多種溶劑來(lái)處理組織樣本2的步驟。一旦組織樣本2適當(dāng)?shù)刂糜诮M織盒I中，組織盒I可通過(guò)一種或多種溶劑處理，如圖3A所示。具體而言，在非限制實(shí)施方式中，組織盒可置于處理載體21中，其可支承一個(gè)或多個(gè)組織盒1，并可含有用于處理組織樣本的溶劑。如圖3B所示，在組織置于處理載體21后，處理載體21可置于容器23中，該容器貯有諸如福爾馬林的溶劑，以對(duì)組織樣本進(jìn)行另外處理。[0031]現(xiàn)在將參照?qǐng)D4A-4C描述包埋組織樣本2的步驟。如圖4A所示，將石蠟25添加至組織盒I以包埋組織樣本2。熔融的石蠟滲透組織盒I并進(jìn)入內(nèi)部區(qū)域24，直至到達(dá)由框架8的壁所圍繞的容積的頂部，從而將組織樣本2包埋在其定向好的位置。如圖4B所示，在石蠟25已經(jīng)添加至組織盒I后，組織盒I保持抵靠于冷卻板31上，以使得位于組織盒I底部處的石蠟25開(kāi)始冷卻。在石蠟開(kāi)始冷卻時(shí)，凝固的石蠟25的第一薄層將組織樣本2粘附至基座4，從而部分地將組織樣本2固定至基座4。當(dāng)石蠟25在組織盒的上部區(qū)域仍然處于熔融時(shí)，連接至保持構(gòu)件6的收回構(gòu)件5將保持元件18的第一組織配合面20朝上拉離組織樣本2并穿過(guò)熔融的石蠟層25。第一組織配合面20保持在遠(yuǎn)離組織樣本2的位置直至其余石蠟25如圖4C所示已凝固。這樣，石蠟完全覆蓋組織樣本2的上表面。[0032]如圖4A-4C所示并如上所闡釋那樣，收回構(gòu)件5置于保持構(gòu)件6上以從組織樣本2收回偏壓元件18和保持元件18。收回構(gòu)件5可采用實(shí)現(xiàn)該功能的任意形式或形狀。例如，收回構(gòu)件5可以包括:鐵磁構(gòu)件，其可通過(guò)磁性吸引來(lái)移動(dòng)；機(jī)械構(gòu)件，諸如杠桿、凸片或觸點(diǎn)或形狀記憶聚合物。收回構(gòu)件的細(xì)節(jié)在名稱(chēng)為“TissueCassettewithRetractableMember(具有可收回構(gòu)件的組織盒)”的美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)第61/799，441號(hào)中公開(kāi)，其通過(guò)引入包含于此。[0033]一旦石蠟25已凝固且組織樣本2已包埋，基座4可以從保持構(gòu)件6拆卸，以露出所包埋的組織樣本的一端，同時(shí)仍附連到第一組織配合面20或第二組織配合面14。[0034]如圖5所示，切割元件66用于對(duì)所包埋組織層進(jìn)行切片以產(chǎn)生組織切片。在非限制實(shí)施方式中，所包埋的組織樣本2可以使用切片機(jī)進(jìn)行切片。在組織樣本2切片后，將其準(zhǔn)備好置于基片上，例如是顯微鏡載玻片，用以作進(jìn)一步處理和觀察。[0035]現(xiàn)在將參照?qǐng)D6更加詳細(xì)地描述組織盒的各個(gè)部件。圖6示出了根據(jù)非限制實(shí)施方式的組織盒I的分解視圖。在該示例性實(shí)施方式中，保持構(gòu)件6具有緣邊16、將緣邊16連接至保持元件18的偏壓構(gòu)件22、以及保持元件18上的第一組織配合面20。在非限制實(shí)施方式中，組織保持元件18通過(guò)偏壓元件22附連到緣邊部16。組織保持元件18的第一組織配合面20還可直接附連到偏壓元件22。替代地，組織保持元件18的第一組織配合面20可以通過(guò)連接部19連接至偏壓元件22，其如圖6所示可從第一組織配合面20朝向緣邊部16延伸。連接部19將第一組織配合面20連接至偏壓元件22。[0036]緣邊16設(shè)有四面壁以及基本矩形形狀。在緣邊16的內(nèi)側(cè)附連有偏壓元件22的一端。偏壓元件22的另一端在連接部19處或第一組織配合面20處附連到保持元件18。[0037]如圖6所示，第一組織配合面20設(shè)置有基本平的網(wǎng)狀部42。在該實(shí)施方式中，網(wǎng)狀部42是矩形形狀，但該形狀不是限制性的，并且網(wǎng)狀部42可以是各種形狀。第一組織配合面20的網(wǎng)狀部42具有多個(gè)穿孔44或缺口。在將網(wǎng)狀部42推抵組織樣本2時(shí)，它將組織樣本2保持就位并允許試劑等通過(guò)網(wǎng)狀部42中的穿孔44流入組織樣本2。穿孔44的尺寸設(shè)置為一方面允許液體流至組織樣本2，另一方面阻止組織樣本2逃脫。因此，網(wǎng)狀部42中的穿孔44可以尺寸設(shè)置為根據(jù)組織樣本2的尺寸。此外，第一組織配合面20可替代地是實(shí)心的，且在表面上不具有孔洞，而同時(shí)仍允許試劑從周界在第一組織配合面20下面流動(dòng)。[0038]現(xiàn)在將參照?qǐng)D6描述基座4。如上所述，組織盒I具有基座4，該基座支承組織樣本2并保持用于包埋的石蠟?；?具有矩形形狀，其具有四面?zhèn)缺谝约鞍枷碌谋环Q(chēng)作第二組織配合面14的底部平面?；?并不限定于該形狀，且可使用不同的形狀而不偏離本發(fā)明的范圍?；?優(yōu)選地是實(shí)心從而它可支持用于包埋的石蠟?；?的壁優(yōu)選是錐形的、例如朝內(nèi)漸縮的，從而改進(jìn)在包埋過(guò)程后可在那里從石蠟移除基座的便利性。[0039]圖7示出了上述實(shí)施方式中使用的偏壓元件的實(shí)例。如上所提及的，組織保持元件18通過(guò)至少一個(gè)偏壓元件22附連到保持構(gòu)件6。在圖1的示意實(shí)施方式中，組織盒I具有四個(gè)偏壓元件22，其中兩個(gè)偏壓元件如附圖中所示以及另兩個(gè)位于相對(duì)的壁上。[0040]如圖6和7所示，每個(gè)偏壓元件22可具有大致S或Z形，并在一端附連到組織保持元件18,并在另一端附連到緣邊部16的內(nèi)表面。偏壓元件22將組織保持元件18推向基座4，以將組織樣本2固定在第一和第二組織配合面14、20之間。因此，偏壓元件22可采用執(zhí)行該功能的任何形狀。例如，還可使用扭力桿或具有另一形狀的偏壓元件，其將在下文詳述。[0041]更具體而言，如圖7所示，每個(gè)偏壓元件22具有第一構(gòu)件26，其具有第一端27和第二端29。第一端27連接至組織保持元件18。從第一構(gòu)件26的鉸接處或第二端29以一定角度向下延伸的是第一傾斜構(gòu)件28。第二傾斜構(gòu)件30通過(guò)第一彎曲的鉸接點(diǎn)36連接至第一傾斜構(gòu)件28。第二傾斜構(gòu)件30從第一傾斜構(gòu)件28以一定角度向上延伸；以及在非限制實(shí)施方式中，第二傾斜構(gòu)件30和第一傾斜構(gòu)件28形成小于90°的角度。從第二傾斜構(gòu)件30朝下延伸的是第三傾斜構(gòu)件32。第二傾斜構(gòu)件30和第三傾斜構(gòu)件32通過(guò)第二彎曲的鉸接點(diǎn)38連接。在非限制實(shí)施方式中，第三傾斜構(gòu)件32和第二傾斜構(gòu)件30形成小于90°的角度。此外，在非限制實(shí)施方式中，第三傾斜構(gòu)件32和第一傾斜構(gòu)件28形成小于90°的角度。第二構(gòu)件34在鉸接點(diǎn)處連接至第三傾斜構(gòu)件32，并基本平行于組織保持元件18延伸。在非限制實(shí)施方式中，第二構(gòu)件34附連到保持構(gòu)件6的緣邊部16。另外地，死止擋件40可靠近第二構(gòu)件34設(shè)置，其阻止第一組織配合面20收回越過(guò)其周界。[0042]偏壓元件22具有特定的柔性以一方面確保組織樣本2保持在第一和第二組織配合面14、20之間，但另一方面還確保組織樣本2在處理期間可經(jīng)受住任何永久性破壞。[0043]如上所提及，在一些實(shí)施方式中，將框架8放置于保持構(gòu)件6的外周界周?chē)?，并用于將保持?gòu)件6緊固至基座4?？蚣?還可用作標(biāo)識(shí)組織樣本的裝置。如圖6所示，框架8具有基本矩形形狀，其一端具有傾斜凸出部，該傾斜凸出部具有傾斜表面52傾斜表面。標(biāo)簽54可以置于傾斜表面52上以標(biāo)識(shí)組織樣本2。將在下文更加詳細(xì)地描述標(biāo)簽54。在該實(shí)施方式中，該平面的角度約45度，而本發(fā)明在該方面不受限制。傾斜表面52可配置為接納標(biāo)簽以使得標(biāo)簽54卡入框架8的傾斜表面52。替代地，框架8可以具有紋理表面并且接通噴墨打印系統(tǒng)，諸如Leica(萊卡)IPC墨水噴射打印機(jī)。在該情形中，組織盒I可在打印后組裝，或基座4連同框架8可配置為傳送經(jīng)過(guò)打印機(jī)。[0044]在非限制實(shí)施方式中，框架8和保持構(gòu)件6不能被輕易地移除從而使得一旦使用了組織盒1，框架8上的標(biāo)簽54將保持與包含在組織盒I內(nèi)的組織樣本2匹配。在某些實(shí)施方式中，框架8具有鎖定凸出部12，其從框架8的周界內(nèi)側(cè)凸出，如圖6所示。鎖定凸出部12與位于保持構(gòu)件6上的緣邊部16的外周界上的配合部55附連，從而將框架8緊固至保持構(gòu)件6。一旦使用該鎖定結(jié)構(gòu)將框架8連接至基座4，將難以分離它們。[0045]基座4包括閉鎖構(gòu)件9，其用作將基座4保持至框架8的夾子或鎖?？商娲?，在不使用框架8時(shí)，閉鎖構(gòu)件9可將基座4鎖定至保持構(gòu)件6。[0046]如圖6所示，閉鎖構(gòu)件9連接至釋放構(gòu)件60。閉鎖構(gòu)件9柔性地附連到基座4。在閉鎖構(gòu)件9被配合時(shí)，閉鎖構(gòu)件9附連到框架8的外周界上的夾表面56。閉鎖構(gòu)件9將基座4鎖定至框架8，框架8附連到保持構(gòu)件6。這樣，密封構(gòu)件10將閉鎖構(gòu)件9連接至基座4以形成框架8和基座4的外周上的表面之間的密封，從而充分地阻止包埋期間石蠟泄漏。在非限制實(shí)施方式中，使用墊圈作為密封構(gòu)件10以有助于密封基座4和框架8。通過(guò)向下按壓釋放構(gòu)件60來(lái)分離閉鎖構(gòu)件9。在按壓釋放構(gòu)件60時(shí)，閉鎖構(gòu)件9離開(kāi)基座4運(yùn)動(dòng)，并從夾表面56脫開(kāi)。在上述的實(shí)施方式中，密封構(gòu)件10從基座4延伸，而密封構(gòu)件10也可從保持構(gòu)件6或框架8延伸。在不受理論限制的情況下，密封用于輔助包埋期間熔化材料的保持。[0047]組織樣本分析的一個(gè)重要方面是準(zhǔn)確地保持跟蹤組織樣本。在一些實(shí)施方式中，組織盒I包括如圖6所示的標(biāo)簽54或ID(身份)標(biāo)識(shí)。標(biāo)簽54可定位在組織盒I上的任意位置，而優(yōu)選地定位在框架8上。在一些實(shí)施方式中，可以存在多于一個(gè)標(biāo)識(shí)。在存在多于一個(gè)標(biāo)識(shí)時(shí)，各個(gè)標(biāo)識(shí)能是物理分開(kāi)的或定位在一起。[0048]標(biāo)簽54可以是計(jì)算機(jī)或人類(lèi)可讀的標(biāo)簽，包括但不限于:具有包含RFID的標(biāo)簽、具有包含的一維條形碼(1-D條形碼)的標(biāo)簽、具有包含的二維條形碼(2-D條形碼)的標(biāo)簽、具有包含的三維條形碼(3-D條形碼)的標(biāo)簽。然而，計(jì)算機(jī)可讀標(biāo)簽并不限定于RFID(射頻識(shí)別)、1-D條形碼、2-D條形碼、或3-D條形碼標(biāo)簽，并可包括計(jì)算機(jī)可讀的任何類(lèi)型的標(biāo)簽，這對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是顯而易見(jiàn)的。[0049]在一些實(shí)施方式中，存在對(duì)于組織樣本或自身的變化敏感的標(biāo)簽54。例如，存在在組織樣本固定期間改變物理(即顏色)或化學(xué)(即，氧化還原作用、結(jié)合等)性質(zhì)的標(biāo)簽54。類(lèi)似地，可存在對(duì)包埋前(即，脫水)的處理步驟敏感的標(biāo)簽54。替代地，可以存在對(duì)包埋步驟(即，石蠟滲透)敏感的標(biāo)簽54。標(biāo)簽54可具有逐步變化或步驟完成時(shí)轉(zhuǎn)變的屬性。這樣，技術(shù)員或自動(dòng)系統(tǒng)將可在開(kāi)始另一個(gè)步驟前確定組織樣本已結(jié)束了一個(gè)步驟。[0050]圖8示出了組織盒I的其他實(shí)施方式。該實(shí)施方式不同于前述實(shí)施方式之處在于在該實(shí)施方式中，可在基座4上或保持元件6上或這兩者上設(shè)置偏壓構(gòu)件58，連同上述實(shí)施方式中所述的偏壓元件22。在該實(shí)施方式中，可以向下推保持構(gòu)件6上的偏壓構(gòu)件58，并且附連到基座4的偏壓構(gòu)件58可以提供偏壓力以使第二組織配合面14遠(yuǎn)離第一組織配合面20運(yùn)動(dòng)。此外，附連到保持構(gòu)件6的偏壓構(gòu)件58可以允許保持構(gòu)件6響應(yīng)于由基座4提供的偏壓力而遠(yuǎn)離基座4運(yùn)動(dòng)。類(lèi)似地，附連到基座4的偏壓構(gòu)件58可允許基座4響應(yīng)由保持構(gòu)件6提供的偏壓力而遠(yuǎn)尚保持構(gòu)件6運(yùn)動(dòng)。在該實(shí)施方式中，在附連到保持構(gòu)件6的偏壓構(gòu)件58或附連到基座4的偏壓構(gòu)件58施加偏壓力時(shí)、或兩者施加偏壓力或不施加偏壓力時(shí)，組織樣本容器I是穩(wěn)定的。[0051]例如，基座4上的偏壓構(gòu)件58可僅用于使得可釋放由偏壓構(gòu)件58對(duì)保持構(gòu)件6施加的力。作為實(shí)例，在該實(shí)施方式中，組織盒I提供雙位置層。第一位置是在基座4上的偏壓構(gòu)件58朝上擠壓第二組織配合面14以使組織配合面向上朝向保持構(gòu)件6被擠壓以壓縮組織樣本2時(shí)。第二位置是釋放偏壓構(gòu)件58在基座上的力以使得第二組織配合面14朝下移動(dòng)時(shí)。這樣，第二組織配合面14遠(yuǎn)離組織2收回，從而使得基座層收回，類(lèi)似于前述實(shí)施方式的第一組織配合面20朝向組織樣本2和離開(kāi)組織樣本2收回。除了所指出的這些不同，圖8的實(shí)施方式具有相同配置并遵循與上述相同的結(jié)構(gòu)。[0052]組織盒I可由各種材料制成，并且相同或不同材料可用于保持構(gòu)件6，包括保持元件18、第一組織配合面20、網(wǎng)狀部42、以及基座4。所使用的材料的實(shí)例包括:縮醛共聚物、特氟綸(Teflon)、聚丙烯以及不銹鋼。在非限制實(shí)施方式中，縮醛共聚物是DELRIN900。在非限制實(shí)施方式中，基座4由聚丙烯材料制成，從而使得基座4在組織樣本2包埋后不附連到石蠟。[0053]在非限制實(shí)施方式中，包括基座、保持構(gòu)件和/或框架的組織盒可由沒(méi)有任何染色或著色材料制成。沒(méi)有顏色可使得技術(shù)員能夠觀察組織盒內(nèi)的組織樣本，并確保組織樣本在包埋后保持在其期望的定向下。在這些實(shí)施方式中，包括基座、保持構(gòu)件和/或框架的組織盒可以是至少不透明的或透明的。[0054]盡管已經(jīng)示出和描述了一些示例實(shí)施方式，提供這些示例實(shí)施方式僅用于將這里所述的主題傳達(dá)給熟悉該領(lǐng)域的人員。應(yīng)該理解的是，這里所述的主題可以各種形式實(shí)施而不限定于所描述的示例實(shí)施方式。這里所述的主題能夠在沒(méi)有那些特定限定或描述的主題時(shí)或通過(guò)未描述的其他或不同元件或主體來(lái)實(shí)施。熟悉本領(lǐng)域的人員應(yīng)該理解的是，能夠在不偏離這里所述的主題的情況下對(duì)這些示例實(shí)施方式做出變化，所述主題由所附權(quán)利要求書(shū)及其等效物限定。此外，部件的結(jié)構(gòu)布置的任意描述或它們之間的關(guān)系僅是用于說(shuō)明目的而不應(yīng)該用于限制示例實(shí)施方式。[0055]在上面描述中已經(jīng)部分地闡明了關(guān)于示例實(shí)施方式的各方面，以及部分應(yīng)該從描述中是顯而易見(jiàn)的，或可以通過(guò)對(duì)申請(qǐng)的實(shí)施方式的實(shí)施來(lái)得知。示例實(shí)施方式的各方面可以使用在前面詳細(xì)描述和所附權(quán)利要求書(shū)中特定指出的元件或各種元件及各方面的組合來(lái)實(shí)現(xiàn)和獲得。[0056]應(yīng)該理解的是，前面描述僅是示例以及僅是例證性的，且不旨在加以限制?！緳?quán)利要求】1.一種用于處理組織樣本的方法，包括提供組織保持盒，所述組織保持盒包括:保持構(gòu)件，所述保持構(gòu)件具有第一組織配合面和至少一個(gè)偏壓元件，所述第一組織配合面通過(guò)所述偏壓元件可動(dòng)地附連到所述保持構(gòu)件，以及基座，所述基座包括第二組織配合面并配置為與所述保持構(gòu)件配合以形成第一和第二組織配合面彼此面對(duì)的內(nèi)部區(qū)域；將所述至少一個(gè)組織樣本置于所述第一組織配合面和所述第二組織配合面中的一個(gè)上；將所述基座和所述保持構(gòu)件附連，以使所述偏壓元件將所述第一組織配合面推向所述第二組織配合面，從而使得所述組織樣本保持在各組織配合面之間；在組織盒中通過(guò)一種或多種溶劑處理組織樣本；以及在組織處于所述組織盒內(nèi)時(shí)將所述組織樣本包埋在石蠟中。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括:從所述保持構(gòu)件卸下所述基座，以使得石蠟的其內(nèi)包埋有所述組織樣本的部分保持附連到所述第一組織配合面和所述第二組織配合面中的一個(gè)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，包埋所述組織樣本的材料是石蠟。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，將所述組織樣本包埋在石蠟中的步驟包括:在一部分石蠟?zāi)讨笫顾龅谝唤M織配合面和所述第二組織配合面中的一個(gè)從所述組織樣本收回，并且允許石蠟的其余部分凝固。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，還包括在包埋和收回步驟期間將所述組織盒置于冷卻板上。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括在所述基座從所述保持構(gòu)件卸下后從石蠟的其內(nèi)包埋有所述組織樣本的部分切片出石蠟層，以產(chǎn)生組織切片。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，還包括將組織切片置于基片上。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括將框架放置于所述基座周?chē)⑺隹蚣芨竭B到所述保持構(gòu)件。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，還包括向所述保持構(gòu)件、所述基座和所述框架中的至少一個(gè)施加標(biāo)簽。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述標(biāo)簽包括計(jì)算機(jī)可讀身份標(biāo)識(shí)。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，還包括用組織樣本特有的信息來(lái)編碼計(jì)算機(jī)可讀身份標(biāo)識(shí)。12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述組織樣本所特有的信息包括患者身份信息、樣本采集部位位置信息、采集溫度、采集時(shí)間以及采集條件中的一個(gè)或多個(gè)。13.一種用于處理組織樣本的方法，包括提供組織保持盒，所述組織保持盒包括:保持構(gòu)件，所述保持構(gòu)件具有第一組織配合面和至少一個(gè)偏壓元件，所述第一組織配合面通過(guò)所述偏壓元件可動(dòng)地附連到所述保持構(gòu)件，以及基座，所述基座包括第二組織配合面，并配置為與所述保持構(gòu)件配合，以形成上組織配合面和第二組織配合面彼此面對(duì)的內(nèi)部區(qū)域；將所述至少一個(gè)組織樣本置于所述第一組織配合面和所述第二組織配合面中的一個(gè)上；將所述基座和所述保持構(gòu)件附連，以使所述偏壓元件將所述第一組織配合面推向所述第二組織配合面，從而使得所述組織樣本保持在組織配合面之間；以及在組織盒中通過(guò)一種或多種溶劑處理組織樣本。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，還包括:將組織樣本包埋在石蠟中，以形成石蠟的組織樣本在組織盒中包埋于其內(nèi)的部分，所述包埋包括將熔融石蠟添加至所述組織盒的所述內(nèi)部區(qū)域，并允許石蠟變凝固。15.一種處理組織樣本的方法，包括將至少一個(gè)組織樣本置于盒上，所述盒具有基座和保持構(gòu)件，在所述組織盒中通過(guò)一種或多種溶劑處理組織樣本，將所述組織樣本包埋在石蠟中，以形成石蠟的組織樣本在所述組織盒中包埋于其內(nèi)的部分，以及將包埋在石蠟中的組織樣本切片為層，以產(chǎn)生組織切片，其中在所述組織樣本附連到所述基座和所述保持構(gòu)件中的至少一個(gè)時(shí)執(zhí)行處理、包埋、和切片步驟。16.一種用于處理組織樣本的方法，包括提供組織保持盒，所述組織保持盒包括:保持構(gòu)件，所述保持構(gòu)件具有第一組織配合面；以及基座，所述基座包括第二組織配合面；以及至少一個(gè)偏壓元件；所述第一組織配合面和第二組織配合面中的至少一個(gè)通過(guò)所述偏壓元件可動(dòng)地附連到所述保持構(gòu)件和所述基座中的至少一個(gè)；以及所述基座和所述保持元件配置為彼此配合，以形成第一和第二組織配合面彼此面對(duì)的內(nèi)部區(qū)域，將所述基座和所述保持構(gòu)件附連，以使所述偏壓元件將第一組織配合面推向所述第二組織配合面，從而使得所述組織樣本保持在組織配合面之間；以及在組織盒中通過(guò)一種或多種溶劑處理所述組織樣本。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于，還包括:將組織樣本包埋在石蠟中以形成石蠟的所述組織樣本在所述組織盒中包埋于其內(nèi)的部分，所述包埋包括將熔融石蠟添加至所述組織盒的所述內(nèi)部區(qū)域內(nèi)，并使得石蠟變凝固?！疚臋n編號(hào)】G01N1/36GK104048863SQ201410186649【公開(kāi)日】2014年9月17日申請(qǐng)日期:2014年3月13日優(yōu)先權(quán)日:2013年3月15日【發(fā)明者】S·諾爾,A·蓋,R·?？颂?F·塔貝特,F·迪亞斯,C·瑞安,N·薩努特申請(qǐng)人:徠卡生物系統(tǒng)努斯洛克有限公司