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一種磁場測量分析系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及到一種通過霍爾探頭的磁場測量分析裝置。包括機架裝置、安裝在機架裝置頂端的橫向移動裝置，安裝在機架裝置上端且與橫向移動裝置成“十”字交叉聯(lián)接的縱向移動裝置，隨橫向移動裝置左右移動且隨縱向移動裝置上下移動的霍爾探針，在所述橫向移動裝置上設(shè)有橫向刻度尺，在所述縱向移動裝置上設(shè)有縱向刻度尺,通過高斯儀上的霍爾探頭的霍爾效應(yīng)對磁鐵表面分不同需要進行定點法進行磁場測量，采集不同點的磁場強度，并通過相應(yīng)的軟件繪制出磁場的曲線圖，根據(jù)測量獲得的磁鋼排布的磁場均勻性，可用于磁鋼的安裝及調(diào)整，提高了磁場排布的均勻性，具有測量過程方面快捷、測量結(jié)果精確、穩(wěn)定可靠等特點。
【專利說明】一種磁場測量分析系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及到一種磁場測量分析裝置，尤其涉及到一種通過霍爾探頭的磁場測量分析系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前鍍膜玻璃采用的磁控濺射技術(shù)，磁控濺射已發(fā)展為工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中的技術(shù)之一，在批量鍍膜生產(chǎn)中特別關(guān)注靶材利用率、膜層均勻性、沉積速率及濺射過程穩(wěn)定性等方面的問題，在磁控濺射鍍膜設(shè)備中，磁鋼只能單獨測量，磁鋼安裝好后，沒法有效的測量磁場的均勻性，因此會使等離子體產(chǎn)生局部収縮效應(yīng)。
[0003]鍍膜玻璃的膜厚均勻性是鍍膜玻璃的非常重要的一個性能指標，它會直接影響到產(chǎn)品的外觀質(zhì)量和使用效果。國家標準要求低輻射玻璃光學性能允許最大偏差為1.5%，當均勻性超過一定范圍時，肉眼即可從玻璃面感覺到色差。當前的建筑幕墻玻璃都是采用大面積鍍膜玻璃，在此控濺射中，約束金屬離子濺射區(qū)域磁場的均勻性直接影響著所鍍膜層的均勻性，因此保證磁場均勻性問題一直是工藝調(diào)試中十分重要而又令人頭疼的問題；目前國內(nèi)很多生產(chǎn)設(shè)備的廠家只能利用量具測量單個磁鐵的磁場強度，裝配好后，不能很好的測量磁場的均勻性，進行調(diào)整和優(yōu)化。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中磁場強度分布不均勻，難以測量的缺陷，本發(fā)明提供一種磁場測量分析系統(tǒng)。
[0005]針對上述的技術(shù)問題，達到上述的技術(shù)目的，本發(fā)明提供一種磁場測量分析系統(tǒng)，其采用的技術(shù)方案為一種磁場測量分析系統(tǒng)，其包括機架裝置、安裝在機架裝置上端的橫向移動裝置，安裝在機架裝置上端且與橫向移動裝置“十”字交叉的縱向移動裝置，可隨橫向移動裝置左右移動和縱向移動裝置上下移動的霍爾探針，在橫向移動裝置上設(shè)有橫向刻度尺，在縱向移動裝置上設(shè)有縱向刻度尺。
[0006]本發(fā)明的優(yōu)先實施方案是，在機架裝置的上端、霍爾探針下方位設(shè)有被測部件，所述被測部件通過定位裝置固定。
[0007]本發(fā)明的優(yōu)先實施方案是，所述橫向移動裝置包括第一手輪、第一齒輪齒條，橫向直線導(dǎo)軌，所述霍爾探針可通過橫向直線導(dǎo)軌內(nèi)導(dǎo)軌進行左、右移動，所述第一手輪轉(zhuǎn)動，帶動第一齒輪齒條運動，進一步帶動霍爾探針在橫向直線導(dǎo)軌內(nèi)左、右移動。
[0008]本發(fā)明的優(yōu)先實施方案是，所述橫向刻度尺安裝在橫向直線導(dǎo)軌的上，通過橫向刻度尺觀測到霍爾探針在橫向直線導(dǎo)軌的移動距離。
[0009]本發(fā)明的優(yōu)先實施方案是，所述縱向移動裝置包括第二手輪、第二齒輪齒條，縱向直線導(dǎo)軌，所述霍爾探針測量機構(gòu)通過其上的滑塊安裝在縱向直線導(dǎo)軌內(nèi)，所述第二手輪轉(zhuǎn)動，帶動第二齒輪齒條運動，進一步帶動霍爾探針測量機構(gòu)在縱向直線導(dǎo)軌內(nèi)做上、下移動。[0010]本發(fā)明的優(yōu)先實施方案是，所述霍爾探針測量機構(gòu)包括第一手輪、第一齒輪齒條、橫向直線導(dǎo)軌、霍爾探針、橫向刻度尺。
[0011]本發(fā)明的優(yōu)先實施方案是，在機架裝置的頂端安裝有一個高斯儀，所屬高斯儀于霍爾探針測量裝置相連，通過高斯儀的數(shù)字現(xiàn)實屏，顯示采集各點的磁場強度。
[0012]本發(fā)明的優(yōu)先實施方案是，所屬機架裝置的底端移動腳輪，所屬移動腳輪的下端還設(shè)有支撐板。
[0013]本發(fā)明的一種優(yōu)先實施方案是，在霍爾探針的上端還設(shè)有上下移動裝置，通過上下移動裝置可微調(diào)霍爾探針與被測部件上下之間的距離。
[0014]本發(fā)明的技術(shù)效果是，通過高斯儀上的霍爾探頭的霍爾效應(yīng)對磁鐵表面分不同需要進行定點法進行磁場測量，采集不同點的磁場強度，并通過相應(yīng)的軟件繪制出磁場的曲線圖，根據(jù)測量獲得的磁鋼排布的磁場均勻性，可用于磁鋼的安裝及調(diào)整，提高了磁場排布的均勻性。本發(fā)明具有測量過程方面快捷、測量結(jié)果精確、穩(wěn)定可靠等特點。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]附圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]1-機架裝置；2_橫向移動裝置；3_縱向移動裝置；4_橫向刻度尺；5_縱向刻度尺；6_定位裝置；7_移動腳輪；8_支撐板；9_上下移動裝置；10_被測部件；11_第二手輪；12-第一手輪；13-霍爾探針；14-霍爾探針測量機構(gòu)；15-第一齒輪；16-第二齒輪；17_高斯儀；19_橫向直線導(dǎo)軌；20_縱向直線導(dǎo)軌；21_位移感應(yīng)器；100_霍爾探針測量裝置。
【具體實施方式】
[0017]為了更清楚的敘述本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做進一步的說明。
[0018]參照圖1所示，一種磁場測量分析系統(tǒng)包括機架裝置1，設(shè)置在機架裝置I上端的縱向移動裝置3和橫向移動裝置2，其中，縱向移動裝置3與橫向移動裝置2成“十”字交叉型。
[0019]橫向移動裝置2包括第一手輪12、第一齒輪齒條15、橫向直線導(dǎo)軌19,架設(shè)在橫向?qū)к?9上的霍爾探針13，霍爾探針13內(nèi)的齒輪裝置與橫向直線導(dǎo)軌19螺旋連接，當橫向直線導(dǎo)軌19旋轉(zhuǎn)時，可帶動霍爾探針13左、右移動。
[0020]從上得知，當轉(zhuǎn)動第一手輪12時，帶動第一齒輪齒條15轉(zhuǎn)動，進一步帶動橫向直線導(dǎo)軌19運動，從而帶動霍爾探針13做左、右橫向移動。
[0021]在橫向直線導(dǎo)軌19上還設(shè)有橫向刻度尺4，當霍爾探針13在橫向直線導(dǎo)軌19做橫向運動時，可通過橫向刻度尺4觀測霍爾探針13移動的距離，在橫向刻度尺4內(nèi)部設(shè)有位移感應(yīng)器21，通過位移感應(yīng)器21可獲得霍爾探針13移動的距離。
[0022]縱向移動裝置3包括第二手輪11、第二齒輪16、縱向直線導(dǎo)軌20，其中，霍爾探針測量機構(gòu)14活動安裝在縱向直線導(dǎo)軌20，當轉(zhuǎn)動第二手輪11時，第二手輪11帶動第二齒輪16旋轉(zhuǎn)，通過第二齒輪16帶動設(shè)置在縱向直線導(dǎo)軌20內(nèi)的霍爾探針測量機構(gòu)14做上、下運動。
[0023]霍爾探針測量機構(gòu)14包括第一手輪12、第一齒輪齒條15、橫向直線導(dǎo)軌19、霍爾探針13、橫向刻度尺14、安裝在霍爾探針13內(nèi)部的位移傳感器21。[0024]在縱向直線導(dǎo)軌20內(nèi)設(shè)置有縱向刻度尺5，通過縱向刻度尺5可觀測霍爾探針測量機構(gòu)14的移動距離。
[0025]如圖1所示，被測部件10安裝在機架裝置I頂端中間位置處，其通過定位裝置6固定。所述被測部件10為鍍膜用的磁鋼裝置，為了獲得鍍膜用均勻分布的磁場，在鍍膜前期，鍍膜操作人員需要通過磁場測量分析裝置判斷磁鋼的磁場分布是否均勻，從而判斷鍍膜的效果。
[0026]為了獲得均勻磁場分布的磁鋼裝置，在霍爾探針13的上端還設(shè)置一個上下移動裝置9，所述上下移動裝置9可用于霍爾探針13上下間距離的微調(diào)。
[0027]以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的實施方式，其描述較為詳細，只要本領(lǐng)域的技術(shù)人員在查看到本發(fā)明的實施例后，不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，所做的改變都屬于本發(fā)明的保護范圍。但本文所述的實施例不能理解為對本發(fā)明的保護范圍限制。
【權(quán)利要求】
1.一種磁場測量分析系統(tǒng)，其特征在于，包括機架裝置(I)、安裝在機架裝置(I)頂端的橫向移動裝置(2)，安裝在機架裝置(2)上端且與橫向移動裝置(2)成“十”字交叉聯(lián)接的縱向移動裝置(3)，隨橫向移動裝置(2)左右移動且隨縱向移動裝置(3)上下移動的霍爾探針(13)，在所述橫向移動裝置(2)上設(shè)有橫向刻度尺(4)，在所述縱向移動裝置(3)上設(shè)有縱向刻度尺(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁場測量分析系統(tǒng)，其特征在于，在所述機架裝置(I)的上端、霍爾探針(13)下方位設(shè)有被測部件(10)，所述被測部件(10)通過定位裝置(6)固定。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁場測量分析系統(tǒng)，其特征在于，所述橫向移動裝置(2)包括第一手輪(12)、第一齒輪齒條(15)，橫向直線導(dǎo)軌(19)，所述霍爾探針(13)可通過所述橫向直線導(dǎo)軌(19)內(nèi)的導(dǎo)軌進行左、右移動，當所述第一手輪(12)轉(zhuǎn)動時，帶動所述第一齒輪齒條(15)轉(zhuǎn)動，進一步帶動所述霍爾探針(13)在橫向直線導(dǎo)軌內(nèi)(19)左、右移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁場測量分析系統(tǒng)，其特征在于，所述橫向刻度尺(4)安裝在所述橫向直線導(dǎo)軌(19)上，通過所述橫向刻度尺(4)可觀測到霍爾探針(13)在所述橫向直線導(dǎo)軌(19)上的移動距離。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁場測量分析系統(tǒng)，所述第一手輪(12)、第一齒輪齒條(15)、橫向直線導(dǎo)軌(19)、霍爾探針(13)、橫向刻度尺(4)結(jié)合組成霍爾探針測量機構(gòu)(14)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的磁場測量分析系統(tǒng)，其特征在于，所述縱向移動裝置(5)包括第二手輪(11)、第二齒輪齒條(16)，縱向直線導(dǎo)軌(20)，所述霍爾探針測量機構(gòu)(14)通過其上的滑塊安裝在縱向直線導(dǎo)軌(20)內(nèi)，所述第二手輪轉(zhuǎn)動(11)，帶動第二齒輪齒條運動(16)，進一步帶動霍爾探針測量機構(gòu)(14)在縱向直線導(dǎo)軌(20)內(nèi)做上、下移動。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁場測量分析系統(tǒng)，其特征在于，在機架裝置(I)的頂端安裝有一個高斯儀(17)，所屬高`斯儀(17)與霍爾探針測量裝置(15)相連，通過高斯儀(17)的數(shù)字顯示屏，顯示采集各點的磁場強度。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁場測量分析系統(tǒng)，其特征在于，所述機架裝置(I)的底端設(shè)有移動腳輪(7 )，所述移動腳輪(7 )的下端還設(shè)有支撐板(8 )。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁場測量分析系統(tǒng)，其特征在于，在所述霍爾探針(17)的上端設(shè)有上下移動裝置(9)，通過所述上下移動裝置(9)可微調(diào)霍爾探針(13)與被測部件(10)上下之間的距離。
【文檔編號】G01R33/07GK103675723SQ201310720934
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年12月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月24日
【發(fā)明者】魏慶瑄, 張俊峰, 李桂良 申請人:上海子創(chuàng)鍍膜技術(shù)有限公司