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一種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置，包括暗箱和設(shè)置在暗箱中的檢測平臺，其特征在于：暗箱中還設(shè)有能夠沿檢測平臺移動的檢測儀，檢測儀包括設(shè)于檢測平臺下方的光源以及設(shè)于檢測平臺上方與光源對應(yīng)的若干雪崩二極管。本發(fā)明的漏光檢測裝置，通過電動或手動方式使檢測儀在暗箱中沿檢測平臺移動從而對遮光料進(jìn)行掃描，能夠方便、快捷的獲得檢測結(jié)果?；谘┍蓝O管的檢測儀檢出率較高。
【專利說明】-種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種漏光檢測裝置，尤其涉及一種遮光料的漏光檢測裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 遮光料通常是由在物料表面添設(shè)遮光層而實(shí)現(xiàn)的，廣泛應(yīng)用在各行各業(yè)。例如印 刷有遮光油墨的鋁箔紙，就是一種遮光料。但由于遮光料的遮光層是后加的，不可避免一些 噴涂或印刷的瑕疵，即遮光料表面會形成一些漏光部位，這些漏光部位將影響遮光料的遮 光效果，降低遮光料生產(chǎn)的成品率。因此，亟需相應(yīng)的漏光檢測裝置。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡單，使用方便、快捷，次品檢出率 高的片狀遮光料漏光檢測裝置。
[0004] 為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為：一種基于雪崩二極管的片狀遮光料 漏光檢測裝置，包括暗箱和設(shè)置在暗箱中的檢測平臺，其特征在于：所述暗箱中還設(shè)有能夠 沿檢測平臺移動的檢測儀，所述檢測儀包括設(shè)于檢測平臺下方的光源以及設(shè)于檢測平臺上 方與所述光源對應(yīng)的若干雪崩二極管。
[0005] 優(yōu)選的，所述檢測儀包括多個所述雪崩二極管，全部雪崩二極管線狀排列，且排列 方向垂直于檢測儀沿檢測平臺的移動方向。
[0006] 優(yōu)選的，所述檢測儀與檢測平臺滑動配合，檢測儀的側(cè)部設(shè)有向外延伸的手柄，且 所述暗箱的對應(yīng)側(cè)設(shè)有沿檢測儀滑動方向延伸的條形槽，所述手柄向外伸出所述條形槽。
[0007] 優(yōu)選的，所述暗箱至少一端對應(yīng)于所述檢測平臺高度的位置開槽作為所述遮光料 的通行口。
[0008] 優(yōu)選的，所述檢測平臺包括臺板本體和可相對于臺板本體移動的活動板，所述活 動板用于放置所述遮光料，且能夠由所述通行口進(jìn)出暗箱。
[0009] 優(yōu)選的，所述臺板本體上設(shè)有滑槽，所述活動板設(shè)置在滑槽中與臺板本體滑動配 合，所述滑槽至少有對應(yīng)所述通行口的一端開口，且槽口設(shè)有倒角。
[0010] 優(yōu)選的，所述活動板對應(yīng)于所述通行口的一端設(shè)有抓握孔。
[0011] 本發(fā)明解決了【背景技術(shù)】中存在的缺陷，具有如下有益效果： 1.本發(fā)明的漏光檢測裝置，通過電動或手動方式使檢測儀在暗箱中沿檢測平臺移動從 而對遮光料進(jìn)行掃描，能夠方便、快捷的獲得檢測結(jié)果?；谘┍蓝O管的檢測儀檢出率較 商。
[0012] 2.多個雪崩二極管線狀排列，且排列方向垂直于檢測儀沿檢測平臺的移動方向， 因此當(dāng)檢測儀移動進(jìn)行掃描時，能夠覆蓋遮光料的整個二維平面，檢測效果好。
[0013] 3.設(shè)置檢測儀與檢測平臺滑動配合的形式，并且檢測儀帶有伸出暗箱的手柄，方 便人工移動檢測儀，操作簡單，快捷。
[0014] 4.暗箱至少一端設(shè)置通行口，可以直接從通行口放入和/或取出檢測平臺上的遮 光料，可以避免設(shè)置暗箱箱蓋和使用時打開暗箱箱蓋，更加方便。
[0015] 5.檢測平臺設(shè)置為臺板本體和可相對于臺板本體移動的活動板形式，使得能夠?qū)?活動板取出后放置遮光料再放回到暗箱的臺板本體上，便于遮光料的置入和平整度保持， 避免遮光料直接由通行口插入暗箱，完全、折損和擺放不正。尤其可以設(shè)計(jì)成活動板設(shè)置在 滑槽中與臺板本體滑動配合的形式，滑槽至少開口，且槽口設(shè)有倒角，一方面保證活動板在 臺板本體上的穩(wěn)定，另一方面又方便其抽出，倒角的設(shè)置還有利于其重新插入臺板本體的 滑槽中。另外活動板對應(yīng)于通行口的一端還可設(shè)置抓握孔，進(jìn)一步便于人工抓握抽拉活動 板。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016] 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明。
[0017] 圖1是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3是圖2所示局部A的放大示意圖； 圖4是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例檢測儀中雪崩二極管的分布俯視圖； 圖中：1、遮光料，2、暗箱，22、入口，24、出口，26、條形槽，3、倒角，4、檢測平臺，42、滑塊， 44、臺板本體，442、滑槽，46、活動板，462、抓握孔，6、檢測儀，62、光源，63、箱體，632、槽，64、 雪崩二極管，66、滑軌，68、手柄。

【具體實(shí)施方式】
[0018] 現(xiàn)在結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，這些附圖均為簡化的示意 圖，僅以示意方式說明本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本發(fā)明有關(guān)的構(gòu)成。
[0019] 如圖1-4所示，一種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置，包括暗箱2和設(shè) 置在暗箱2中的檢測平臺4。暗箱2中還設(shè)有能夠沿檢測平臺4移動的檢測儀6,檢測儀6 包括設(shè)于檢測平臺4下方的光源62以及設(shè)于檢測平臺4上方與光源62對應(yīng)的雪崩二極管 64。
[0020] 暗箱2為長方體狀，兩端分別設(shè)有作為遮光料1通行口的入口 22和出口 24。檢測 平臺4水平設(shè)置在暗箱2中，兩端分別延伸至入口 22和出口 24,即檢測平臺4和出、入口 22、24高度的配合使得遮光料1恰好能夠以水平狀態(tài)從入口 22進(jìn)入暗箱2、到達(dá)檢測平臺 4,并由出口 24離開。
[0021] 檢測儀6與檢測平臺4滑動配合。具體的，檢測平臺4的兩側(cè)分別設(shè)有沿檢測平 臺4延伸方向的條狀滑塊42,而檢測儀6的兩側(cè)分別設(shè)有滑軌66,檢測儀6兩側(cè)的滑軌66 分別卡合在對應(yīng)的滑塊42上，使得檢測儀6能沿滑塊42延伸方向滑動。檢測儀6的側(cè)部 設(shè)有向外延伸的手柄68,且暗箱2的對應(yīng)側(cè)設(shè)有沿檢測儀6滑動方向延伸的條形槽26,手 柄68向外伸出條形槽26,便于人工抓握來拉動檢測儀6相對于檢測平臺4移動。
[0022] 檢測平臺4包括固定于暗箱2的臺板本體44和可相對于臺板本體44移動的活動 板46?；顒影?6用于放置遮光料1，且能夠由入口 22進(jìn)入暗箱2。具體的，臺板本體44上 設(shè)有滑槽442,活動板46設(shè)置在滑槽442中與臺板本體44滑動配合，滑槽442對應(yīng)暗箱2 入口 22的一端開口，且槽口設(shè)有倒角3。另外，活動板46對應(yīng)于暗箱2入口 22的一端還設(shè) 有抓握孔462。
[0023] 檢測儀6包括設(shè)于檢測平臺4上方中空的箱體63,以及容置在箱體63中的多個 雪崩二極管64。箱體63的底部設(shè)有狹縫或槽632,以便雪崩二極管64對檢測平臺4活動 板46上的遮光料1進(jìn)行感應(yīng)。箱體63中，全部雪崩二極管64線狀等間隔排列，且排列方 向垂直于檢測儀6沿檢測平臺4的移動方向，雪崩二極管64的數(shù)量在本實(shí)施例中為6個， 但不限于6個。
[0024] 使用時，從暗箱2的入口 22,通過抓握孔462抽出活動板46,將待檢測遮光料1置 于活動板46上，一同送入暗箱2,嵌設(shè)在臺板本體44中，隨后握住手柄68移動檢測儀6即 可對遮光料1進(jìn)行全面掃描。掃描時，檢測平臺4下方的光源62進(jìn)行照明，雪崩二極管64 感應(yīng)漏光部位。檢測儀6可以外接指示裝置、計(jì)算機(jī)來反饋用戶檢測結(jié)果。最后從暗箱2 出口 24可以將檢測完畢的遮光料1取出。
[0025] 以上依據(jù)本發(fā)明的理想實(shí)施例為啟示，通過上述的說明內(nèi)容，相關(guān)人員完全可以 在不偏離本項(xiàng)發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)發(fā)明的技術(shù)性范圍 并不局限于說明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來確定技術(shù)性范圍。
【權(quán)利要求】
1. 一種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置，包括暗箱和設(shè)置在暗箱中的檢測 平臺，其特征在于：所述暗箱中還設(shè)有能夠沿檢測平臺移動的檢測儀，所述檢測儀包括設(shè)于 檢測平臺下方的光源以及設(shè)于檢測平臺上方與所述光源對應(yīng)的若干雪崩二極管。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置，其特征在 于：所述檢測儀包括多個所述雪崩二極管，全部雪崩二極管線狀排列，且排列方向垂直于檢 測儀沿檢測平臺的移動方向。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置，其特征在 于：所述檢測儀與檢測平臺滑動配合，檢測儀的側(cè)部設(shè)有向外延伸的手柄，且所述暗箱的對 應(yīng)側(cè)設(shè)有沿檢測儀滑動方向延伸的條形槽，所述手柄向外伸出所述條形槽。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的一種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置，其 特征在于：所述暗箱至少一端對應(yīng)于所述檢測平臺高度的位置開槽作為所述遮光料的通行 □。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置，其特征在 于：所述檢測平臺包括臺板本體和可相對于臺板本體移動的活動板，所述活動板用于放置 所述遮光料，且能夠由所述通行口進(jìn)出暗箱。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置，其特征在 于：所述臺板本體上設(shè)有滑槽，所述活動板設(shè)置在滑槽中與臺板本體滑動配合，所述滑槽至 少有對應(yīng)所述通行口的一端開口，且槽口設(shè)有倒角。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的一種基于雪崩二極管的片狀遮光料漏光檢測裝置，其特 征在于：所述活動板對應(yīng)于所述通行口的一端設(shè)有抓握孔。
【文檔編號】G01N21/89GK104048974SQ201410229988
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年5月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月28日
【發(fā)明者】尚文, 李相鵬 申請人:蘇州科技學(xué)院