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專(zhuān)利名稱(chēng)：一種光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光纖涂覆領(lǐng)域，特別是涉及一種光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的測(cè)量光纖涂覆層的測(cè)試方法有側(cè)視光分布法和機(jī)械法對(duì)光纖側(cè)面進(jìn)行光纖涂覆層尺寸的進(jìn)行測(cè)量。A.側(cè)視法:采用合適的光纖夾具旋轉(zhuǎn)光纖試樣，測(cè)試出不同角度位置上得包層直徑、一次涂層直徑、二次涂覆層直徑，計(jì)算出相應(yīng)參數(shù)的最大值和最小值。試驗(yàn)裝置如圖1和圖2所示。如圖1和圖2所示側(cè)視法是對(duì)光纖的側(cè)面進(jìn)行光纖涂覆層的幾何尺寸進(jìn)行測(cè)試，由于光纖本身是透明的而且具有聚焦作用，不同形狀的光纖存在不同的聚焦能力，因此本身在測(cè)試過(guò)程中存在這種聚焦能力而影響光纖的測(cè)量精度。測(cè)試法的典型精度為lum。B.機(jī)械法:如圖3所不,米用兩個(gè)平站,一個(gè)固定、另一個(gè)移動(dòng)。可移動(dòng)平站安裝在精密控制器上或者可以自由移動(dòng)。通過(guò)彈簧(或有懸掛重物產(chǎn)生拉力、或采用其他類(lèi)似手段)將可移動(dòng)平砧貼緊固定平砧(或光纖)。測(cè)量時(shí)，應(yīng)將平砧表面與試樣表面的接觸力跳到足夠小，使得試樣或平砧產(chǎn)生的變形可以忽略。用電子測(cè)微計(jì)精確地測(cè)量?jī)善秸璧拈g隙。如圖3所示，采用機(jī)械法由于采用了接觸式測(cè)試，不僅測(cè)試精度不高，同時(shí)測(cè)試參數(shù)只能進(jìn)行光纖最外層涂覆的測(cè)試。綜上所述，現(xiàn)有的測(cè)試方法存在的問(wèn)題如下:1.測(cè)試精度低；i1.測(cè)試參數(shù)少，無(wú)法滿(mǎn)足光纖生產(chǎn)廠家的要求；ii1.測(cè)試穩(wěn)定性能差。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于提供一種能夠精確測(cè)量光纖涂覆層(包括一次涂覆層)幾何參數(shù)的測(cè)試方法，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本發(fā)明提供一種光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法，包括如下步驟:(I)在光纖涂覆層端面向后合適的長(zhǎng)度處剝離涂覆層，再采用光源從剝離處照A ；(2)光源通過(guò)涂覆層的傳導(dǎo)，將光纖涂覆層的端面照亮；(3)將光纖涂覆層的端面的圖像投影至成像系統(tǒng)中，通過(guò)各涂覆層不同的材料衰減系數(shù)以及不同的光入射角，即能將各層次區(qū)分開(kāi)。優(yōu)選的，所述步驟3中，所述成像系統(tǒng)包括圖像采集系統(tǒng)和圖像處理系統(tǒng)，圖像采集系統(tǒng)采集圖像，再通過(guò)圖像處理系統(tǒng)即可計(jì)算出光纖涂覆層的各項(xiàng)數(shù)據(jù)。(包括各涂覆層的涂覆層直徑、涂覆層不圓度、最小(最大)涂覆層厚度、涂覆\芯同心度誤差等參數(shù))
優(yōu)選的,所述成像系統(tǒng)為CO) (Charge-coupled Device)成像系統(tǒng)。優(yōu)選的，所述剝離涂覆層的位置位于光纖涂覆層端面向后5-80_。本發(fā)明第二方面提供所述光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法在光纖涂覆層測(cè)試領(lǐng)域的應(yīng)用。本發(fā)明應(yīng)用廣泛，本發(fā)明適用于各種光纖涂覆層材料，可以測(cè)試未經(jīng)著色的各種光纖類(lèi)型的光纖。本發(fā)明的測(cè)試方法大大提高的光纖涂覆層(包括一次涂覆層)參數(shù)的測(cè)試速度，提高了工作效率。此發(fā)明作光纖涂覆層(包括一次涂覆層)幾何參數(shù)測(cè)試的關(guān)鍵技術(shù)和創(chuàng)新點(diǎn)之一，可以解決原有設(shè)計(jì)系統(tǒng)中無(wú)法進(jìn)行光纖一次涂覆層參數(shù)的測(cè)試。本發(fā)明通過(guò)上述的方法實(shí)現(xiàn)光纖涂覆層(包括一次涂覆層)的幾何參數(shù)端面測(cè)試的測(cè)試方法，大大提高光纖涂覆層幾何參數(shù)測(cè)試儀的測(cè)試速度和測(cè)試精度，特別是一次涂覆層的幾何參數(shù)的測(cè)試精度。


圖1顯示為測(cè)試光分布法試驗(yàn)裝置(包含光學(xué)顯微鏡)。圖2顯示為測(cè)試光分布法試驗(yàn)裝置(包含激光器)。
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圖3顯示為典型的電子測(cè)微計(jì)系統(tǒng)(俯視圖)。
圖4顯示為光纖涂覆層端面圖像生成示意圖。
圖5顯示為(XD成像系統(tǒng)示意圖。元件標(biāo)號(hào)說(shuō)明I顯微鏡2旋轉(zhuǎn)光纖夾具3旋轉(zhuǎn)臺(tái)4白光源5第一被試光纖6折射率匹配液7光源8掃描裝置9第一透鏡組10第二被試光纖11第二透鏡組12光檢測(cè)器13數(shù)據(jù)采集器14固定平貼15試樣支架16第一彈簧17后向反射鏡18電子測(cè)微計(jì)19精密平臺(tái)上的平貼20試樣
21第二試樣支架22第二彈簧23測(cè)微計(jì)螺桿31光源32裸光纖33光纖涂覆層34光纖涂覆層端面圖像35CCD成像系統(tǒng)36成像在CCD上的圖像
具體實(shí)施例方式以下通過(guò)特定的具體實(shí)例說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說(shuō)明書(shū)所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本發(fā)明還可以通過(guò)另外不同的具體實(shí)施方式
加以實(shí)施或應(yīng)用，本說(shuō)明書(shū)中的各項(xiàng)細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用，在沒(méi)有背離本發(fā)明的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。請(qǐng)參閱圖4-5。需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中所提供的圖示僅以示意方式說(shuō)明本發(fā)明的基本構(gòu)想，遂圖式中僅顯示與本發(fā)明中有關(guān)的組件而非按照實(shí)際實(shí)施時(shí)的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實(shí)際實(shí)施時(shí)各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復(fù)雜。如圖4所示，在光纖涂覆層33端面向后合適的長(zhǎng)度內(nèi)剝離涂覆層，露出裸光纖32，再采用光源31從此處照入。光從剝離處通過(guò)各層涂覆層的傳導(dǎo)，將光纖涂覆層33的端面照亮并根據(jù)不同的材料衰減系數(shù)不同，生成光纖涂覆層端面圖像34，將不同層次區(qū)分開(kāi)。如圖5所示，將區(qū)分開(kāi)的光纖涂覆層端面圖像34經(jīng)過(guò)CXD成像系統(tǒng)35成像。將成像在CCD上的圖像36進(jìn)行采集、圖像處理以及合適的算法，將光纖涂覆層各項(xiàng)數(shù)據(jù)測(cè)量出。實(shí)施例1通過(guò)如下步驟，對(duì)光纖的各參數(shù)進(jìn)行測(cè)試:(I)在光纖涂覆層端面后剝離涂覆層，再采用光源從剝離處照入；(2)光源通過(guò)涂覆層的傳導(dǎo)，將光纖涂覆層的端面照亮；(3)將光纖涂覆層的端面的圖像投影至CXD成像系統(tǒng)中，圖像采集系統(tǒng)采集圖像，通過(guò)各涂覆層不同的材料衰減系數(shù)以及不同的光入射角，即能將各層次區(qū)分開(kāi)，再通過(guò)圖像處理系統(tǒng)即可計(jì)算出光纖涂覆層的各涂覆層的涂覆層直徑、涂覆層不圓度、最小(最大)涂覆層厚度、涂覆\芯同心度誤差等參數(shù)。各光纖的設(shè)計(jì)規(guī)格及成像結(jié)果如表I所示:表I
權(quán)利要求
1.一種光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法，包括如下步驟: (1)在光纖涂覆層端面向后合適的長(zhǎng)度處剝離涂覆層，再采用光源從剝離處照入； (2)光源通過(guò)涂覆層的傳導(dǎo)，將光纖涂覆層的端面照亮； (3)將光纖涂覆層的端面的圖像投影至成像系統(tǒng)中，通過(guò)各涂覆層不同的材料衰減系數(shù)以及不同的光入射角，即能將各層次區(qū)分開(kāi)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法，其特征在于，所述步驟3中，所述成像系統(tǒng)包括圖像采集系統(tǒng)和圖像處理系統(tǒng)，圖像采集系統(tǒng)采集圖像，再通過(guò)圖像處理系統(tǒng)即可計(jì)算出光纖涂覆層的各項(xiàng)數(shù)據(jù)。
3.如權(quán)利要求2所述的一種光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法，其特征在于，所述成像系統(tǒng)為CXD成像系統(tǒng)。
4.如權(quán)利要求1所述的一種光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法，其特征在于，所述剝離涂覆層的位置位于光纖涂覆層端面向后5-80_處。
5.如權(quán)利要求1-4任一權(quán)利要求所述的光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法在光纖涂覆層測(cè)試領(lǐng)域的應(yīng)用。
全文摘要
本發(fā)明涉及光纖涂覆領(lǐng)域，特別是涉及一種光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法。本發(fā)明提供一種光纖涂覆層幾何參數(shù)的檢測(cè)方法，包括如下步驟在光纖涂覆層端面向后合適的長(zhǎng)度處剝離涂覆層，再采用光源從剝離處照入；光源通過(guò)涂覆層的傳導(dǎo)，將光纖涂覆層的端面照亮；將光纖涂覆層的端面的圖像投影至成像系統(tǒng)中，通過(guò)各涂覆層不同的材料衰減系數(shù)以及不同的光入射角，即能將各層次區(qū)分開(kāi)。本發(fā)明通過(guò)上述的方法實(shí)現(xiàn)光纖涂覆層的幾何參數(shù)端面測(cè)試的測(cè)試方法，大大提高光纖涂覆層幾何參數(shù)測(cè)試儀的測(cè)試速度和測(cè)試精度，特別是一次涂覆層的幾何參數(shù)的測(cè)試精度。
文檔編號(hào)G01B11/00GK103115568SQ20131004688
公開(kāi)日2013年5月22日 申請(qǐng)日期2013年2月6日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月6日
發(fā)明者沈奶連, 涂建坤, 王建財(cái) 申請(qǐng)人:上海電纜研究所