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對鏡片進行反射測量的支架、裝置和方法
【專利摘要】一種鏡片支架適合用于將鏡片（5）夾持在三個第一接觸部分（41-43）與三個第二接觸部分（61-63）之間。第一接觸部分形成用于該鏡片定位的高度基準(zhǔn)，第二接觸部分保證使該鏡片應(yīng)用在第一接觸部分上，同時符合該鏡片的任何可能的形狀。該支架適于被結(jié)合在反射測量裝置中。特別地，它對于測量設(shè)置有減反射涂層的鏡片的反射、或?qū)︾R片向鏡片佩戴者所提供的防UV危害保護進行評級是有用的。
【專利說明】對鏡片進行反射測量的支架、裝置和方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于對鏡片進行反射測量的支架、裝置和方法。特別地，該反射測量可以在可見的、UV A和UV B輻射的波長范圍內(nèi)。
[0002]此類測量對于對可見輻射進行鏡片的減輻射效率量化可以是特別有用的。
[0003]它對于對鏡片向佩戴者提供的防UV危害保護進行量化也可以是有用的。
【背景技術(shù)】
[0004]已知的光學(xué)分析技術(shù)(比如反射測量術(shù)和橢圓測量術(shù))涉及到反射測量。同樣，許多裝置對于實現(xiàn)這些技術(shù)是可商購的。
[0005]但這些裝置被設(shè)計成用于對帶有多個平面反射面的樣品進行反射測量。例如，被測樣品是配備有薄膜(如用于微電子應(yīng)用的)的硅片。例如考慮到制造建筑用或汽車用玻璃、或者是顯示面板，它們還可以是具有涂層的平面玻璃樣品。
[0006]然而，需要對鏡片進行反射測量，特別是為了對配備有減反射涂層的鏡片的剩余反射進行量化、以及為了對提供給鏡片佩戴者的防UV輻射危害的保護效率進行量化。對于具有減反射涂層的鏡片，這些測量處理可見輻射，即包括在380nm(納米)和780nm之間的波長范圍內(nèi)的，且入射角值小于等于17° (度)。對于UV保護評級，這些測量對具有在280nm和380nm之間的波長值和比如30°、甚至45°的入射角的UV-A和UV-B輻射進行處理。
[0007]但是由于鏡片面的彎曲形狀或凹或凸，目前可獲得的裝置不允許對鏡片進行反射測量。確實，這些裝置不是被設(shè)計成用于將樣品的一個面(此面是彎曲的)暴露于測量光束，并在這個面中的測量位置處對樣品面的高度進行控制。另外，如果不特別注意被測面的曲率的光學(xué)后果，該樣品面的曲率會造成測量結(jié)果的誤差。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]從這個現(xiàn)有情況開始，本發(fā)明的一個目的是允許以一種簡單高效且具有高測量精度的方式對鏡片進行反射測量。
[0009]本發(fā)明的另一個目的是允許使用同一個裝置對配備有在可見波長范圍內(nèi)有效的減反射涂層的鏡片的剩余反射進行量化，而且還允許對向鏡片佩戴者提供的UV保護進行評級。
[0010]本發(fā)明還有另一個目的是在不損壞該鏡片或需要該鏡片永久改變的前提下測量一個鏡片上的反射。
[0011]為了達到這些目的中的至少一個或其他目的，本發(fā)明提出了一種新穎的支架，該支架適合用于對眼科鏡片進行反射測量。該支架包括:
[0012]-上部部分，其本身包括上部基座元件和三個第一接觸部分，這三個第一接觸部分被剛性地安排在該上部基座元件的下端，以便與該鏡片的第一面在對應(yīng)的基準(zhǔn)位置分別產(chǎn)生三個第一點接觸，這些基準(zhǔn)位置被相對于該上部部分固定地限定；
[0013]-下部部分，其本身包括下部基座元件和三個第二接觸部分，這三個第二接觸部分分別安裝在該下部基座元件上，以便從這個下部基座元件的上端延伸直至超出該下部基座元件的該上端對應(yīng)的可變距離，并能夠提供三個第二點接觸；以及
[0014]-保持裝置，其用于保持該上部部分和下部部分，并且該上部部分和下部部分的相應(yīng)下端和上端面朝彼此，同時將這些第二接觸部分朝該上部部分按壓，從而使得該鏡片被固定在這些第一接觸部分和這些第二接觸部分之間，其中，這三個第二點接觸位于該鏡片的與該第一面相對的第二面中。
[0015]此外，該上部基座元件具有多個凹陷，這些凹陷被設(shè)置在這個上部基座元件的多個相對的側(cè)面中，從而使得在這些凹陷之一中傳播的光束可以在位于這三個第一點接觸之間的測量位置處照射在該鏡片的該第一面上，并且來自該鏡片第一面中的該測量位置的光束的反射方向穿過這些凹陷的另一個并從這個另一個凹陷離開。
[0016]因此，使用本發(fā)明支架，該鏡片被夾在該上部部分和下部部分之間，從而使得可以簡單、容易并快速獲得鏡片的固定。該上部部分的這些接觸部分為該被測鏡片面形成高度基準(zhǔn)，該高度基準(zhǔn)與此面的彎曲形狀是相配的。同樣，該支架的該下部部分的這些接觸部分可以符合該鏡片的另一個面的形狀，不論這個另一個面是什么樣的。因此，本發(fā)明支架保證了該鏡片的被反射測量的面正確地抵靠在該支架的該上部部分的這些接觸部分上。被反射測量的該面的高度由此被精確地控制。
[0017]本發(fā)明的優(yōu)選實施例可以分開地或結(jié)合其中的若干個進行以下改進:
[0018]-該下部部分和上部部分可以圍繞一個軸線定向，該軸線從該上部基座元件的下端朝該下部基座元件的上端延伸，從而使得這三個第一點接觸分別沿著多個與該軸線平行的方向與這三個第二點接觸對齊。以此方式，為了固定該鏡片而涉及的夾力可能造成的該鏡片的任何變形都可以避免；
[0019]-在該上部基座元件的這些相對側(cè)面中的這些凹陷可以被設(shè)計成使得該照射光束的傳播方向與垂直于包含這三個第一點接觸的平面的方向之間的入射角被包括在15°與45°之間；
[0020]-該下部基座元件可以具有設(shè)置在此下部基座元件的側(cè)面中的空隙凹陷(clearing recess),從而使得當(dāng)該鏡片被固定在這些第一接觸部分和這些第二接觸部分之間時傳輸通過該鏡片的該光束的一部分在離開該鏡片的該第二面之后傳播通過該空隙凹陷；
[0021]-這三個第一接觸部分可以被安排在該上部基座元件的下端，從而使得它們形成等邊三角形。該支架因此可以用一種最佳方式適合有待進行反射測量的該鏡片的第一面的大多數(shù)可能的形狀；以及
[0022]-該用于保持該上部部分和下部部分的保持裝置可以包括升降系統(tǒng)，該升降系統(tǒng)適用于將該下部部分朝該上部部分移動，直到該鏡片被夾持在這三個第一接觸部分和這三個第二接觸部分之間，同時限制這三個第一接觸部分在該鏡片的該第一面上的壓力，并限制這三個第二接觸部分在該鏡片的該第二面上的壓力。因此，這些鏡片面在任何一個面上都不會被這些接觸部分損壞，并且該鏡片可以以快速且容易實施的操作安裝到本發(fā)明支架中。
[0023]本發(fā)明還提出了一種反射測量裝置，該裝置包括剛?cè)缜懊嫠龅闹Ъ?，可能帶有前面列出的改進。該裝置進一步包括光源、光強傳感器、光傳送端口和光收集端口。該光傳送端口連接到該用于保持該上部部分和下部部分的保持裝置，從而使得該光源產(chǎn)生的光束通過該光傳送端口離開，然后傳播通過該上部基座元件的這些凹陷中的一個并照射到該鏡片的該第一面上去。該光收集端口也連接到該用于保持該上部部分和下部部分的保持裝置，從而使得該光源產(chǎn)生并被該鏡片的該第一面反射的該光線穿過該上部基座元件的另一凹陷，然后進入該光收集端口并到達該光強傳感器。
[0024]在本發(fā)明裝置的一些實施例中，該光源可以被適配成用于輸出該光束，該光束具有連續(xù)分布在從280nm到780nm波長范圍的輻射。然后，該裝置可以進一步包括輻射選擇器，該輻射選擇器被安排成使得該光強傳感器感測限制地在選定在280nm和780nm之間的波長窗口內(nèi)的福射。
[0025]該裝置還可以包括角度設(shè)置系統(tǒng)，該角度設(shè)置系統(tǒng)適于移動該光傳送端口和該光收集端口，從而使得該照射光束的并且也是存在于垂直于包含這三個第一點接觸的該平面的方向與該光束被該鏡片第一面反射時的傳播方向之間的入射角可以被設(shè)置為目標(biāo)值。該目標(biāo)值可以被選定為在從小于等于17°的較小角度值直到大于等于45°的較大角度值的角度范圍內(nèi)。
[0026]分開地或與該角度設(shè)置系統(tǒng)結(jié)合，該裝置還可以包括橫向定位系統(tǒng)，該橫向定位系統(tǒng)適合用于沿著多個垂直于軸線的方向設(shè)置該鏡片的橫向位置，該軸線從該上部基座元件的下端朝該下部基座元件的上端延伸。然后可以通過該橫向定位系統(tǒng)的設(shè)置在該鏡片的該第一面內(nèi)選擇測量位置。此橫向定位系統(tǒng)可以包括至少一個抵接段，該抵接段被安排用于接觸該鏡片的外圍邊緣并且離該測量位置的分離距離是可調(diào)整的。該橫向定位系統(tǒng)還可以包括基于該鏡片的直徑的設(shè)置設(shè)備，從而使得測量位置可以由其離該鏡片的外圍邊緣或者中心點的分離距離識別。
[0027]本發(fā)明進一步提出了一種用于使用如上文所描述的裝置對鏡片進行反射測量的方法，該方法包括如下步驟:
[0028]/I/提供一組參照樣品，這些參照樣品具有曲率值已知的球形的對應(yīng)的測量面，每個參照樣品具有已知的反射值并被設(shè)計成使得此參照樣品的背面并不會導(dǎo)致反射輻射；
[0029]/2/獲得有待進行反射測量的鏡片，并還獲得此鏡片的要進行反射測量的面的平均曲率值；
[0030]/3/選擇這些參照樣品之一，從而使得該選定的參照樣品的曲率值與該有待進行反射測量的鏡片面的平均曲率值匹配；
[0031]/4/使用該裝置，其中，所選定的參照樣品被固定在該支架中，進行第一反射測量并從光強傳感器獲得第一強度值；
[0032]/5/在該支架中用該鏡片替代該參照樣品，并進行第二反射測量并從該光強傳感器得到第二強度值；以及
[0033]/6/通過將在步驟/3/中選定的該參照樣品的反射值與分別在步驟/4/和/5/中獲得的該第一強度值和第二強度值結(jié)合，獲得該鏡片面的反射值結(jié)果。
[0034]在本發(fā)明方法中，這些參照樣品的這些已知反射值和在步驟/4/和/5/中進行的這些測量涉及同一個入射角值和同一個波長窗口。此類方法適用于對具有彎曲的光反射面的樣品(比如鏡片)測量反射，而測量結(jié)果并不被這些被測面的曲率破壞?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0035]圖1是根據(jù)本發(fā)明的反射測量裝置的總體正視圖；
[0036]圖2a和圖2b分別是根據(jù)本發(fā)明的鏡片支架(如在根據(jù)圖1的裝置中使用的)的上部部分的透視圖和俯視圖；
[0037]圖3是根據(jù)本發(fā)明的鏡片支架的下部部分的透視圖；
[0038]圖4是圖1的該裝置的中心部分的放大視圖；以及
[0039]圖5是在圖1的該裝置中所實施的橫向定位系統(tǒng)的俯視圖。
[0040]為了清晰，可以不跟實際尺寸有關(guān)、也不跟實際尺寸的比例有關(guān)地來確定這些圖中展示的元件的尺寸。另外，在不同圖中使用的相同的附圖標(biāo)記表示相同的元件。
【具體實施方式】
[0041]根據(jù)圖1，被總體表示為100的反射測量裝置包括:
[0042]-光源1，
[0043]-光傳送頭3,帶有光傳送端口3p,
[0044]-第一光纖2，用于將由該光源I產(chǎn)生的光束傳導(dǎo)到該光傳送頭3，
[0045]-光收集頭8，帶有光收集端口8p，
[0046]-第二光纖9，用于將由該光收集頭8收集的光朝光強傳感器傳導(dǎo)，
[0047]-可選地，輻射選擇器11，被設(shè)計成用于在所收集的光中選擇具有包含在期望的波長窗口內(nèi)的波長的輻射，以及
[0048]-光強傳感器12。
[0049]附圖標(biāo)記5表示有待進行反射測量的鏡片，具有上光學(xué)面5a和下光學(xué)面5b。該鏡片面5a是要進行反射測量的面。例如，該鏡片面5a是凹的并且鏡片面5b是凹的。然后，光傳送端口 3p輸出的光束被引導(dǎo)到鏡片面5a上去，并且此光束的反射部分進入該光收集端口 8p。附圖標(biāo)記5’表示該鏡片5在該裝置100中的另一個定位，這樣使得反射測量在其光學(xué)面中的一個凸面上進行。Dl表不由該光傳送頭3輸出的光束的傳播方向，并且D2表不該光束的反射部分朝該光收集頭8的傳播方向。
[0050]A-A表示裝置100的軸線，期望該軸線垂直于在測量位置處的該鏡片5的該面5a。因此，方向Dl和D2相對于軸線A-A對稱，其中，軸線A-A與方向Dl之間存在入射角α。角α還是存在于軸線A-A與方向D2之間的反射角。角度標(biāo)尺101和102被設(shè)計成用于允許針對頭3和頭8對入射角α的調(diào)整，以便收集反射光束部分。例如，裝置100被設(shè)計成用于允許入射角α被設(shè)置在從10°到70°范圍內(nèi)的值。
[0051]鏡片5的支架自身包括上部部分4、下部部分6、和用于相對于裝置100的其他部件保持此上部部分4和此下部部分6的基座部分。實際上，該基座部分可以與整個裝置100的支撐框架是一體的。優(yōu)選地，該基座部分相對于該支撐框架剛性地保持該支架的上部部分4。
[0052]附圖標(biāo)記7表示附加系統(tǒng)，該附加系統(tǒng)用于沿著多個垂直于軸線A-A的方向調(diào)整鏡片5的位置。稍后將在下文中對系統(tǒng)7進行描述。
[0053]光源I可以是任何適用于在期望的波長范圍內(nèi)的測量的類型。例如，氘燈和鎢燈的組合適用于對應(yīng)于UV-B、UV-A和可見輻射的從280nm到780nm的波長范圍內(nèi)的測量。[0054]該光傳送頭3和光收集頭8分別可以具有任何適用于對對應(yīng)的光纖2或9與鏡片5的面5a上的測量位置之間的截面輪廓中的光束進行適配的光學(xué)結(jié)構(gòu)。例如，頭3、8各自可以包括兩個透鏡，選擇這些透鏡是用于在測量位置產(chǎn)生具有2_截面直徑的光束。
[0055]輻射選擇器11和光強傳感器12可以被包括在任何可商購類型的光譜儀10內(nèi)。
[0056]根據(jù)圖2a和圖2b，該支架的上部部分4包括上部基座元件40和三個接觸部分41、42和43。這些部分41到43分別可以包括固定地安裝在基座元件40中的桿，并且桿的自由端為球形并從基座元件40的下表面延伸?；?0被剛性地保持在裝置100中，并且例如接觸部分41到43朝下定向。這些接觸部分41到43的這些桿是平行的，并沿著軸線A-A向下凸出延伸到共同的高度。每個桿伸出基座元件40的延伸長度可以包括在約1.2mm(毫米)和3mm之間。此外，這些接觸部分41到43可以分布在基座元件40的下表面以便形成等邊三角形，例如，邊長為10.8mm且相對于軸線A-A定中心。
[0057]根據(jù)圖3，該鏡片支架的下部部分6包括下部基座元件60，該下部基座元件設(shè)置有三個可伸縮的指狀物61、62和63，這些指狀物彼此相同且朝上定向。指狀物61到63中的每一個包括剛性桿，此剛性桿從下部基座元件60的上表面平行于軸線A-A地延伸出，但是由于安裝在該桿和該下部基座元件60之間的彈簧64，桿具有可變的突出長度。優(yōu)選地，這些指狀物61到63分別被安排在該下部基座元件60的該上表面中、沿著與軸線A-A平行的方向與這些接觸部分41到43對齊。形成這些指狀物61到63的這些桿的上端還可以被成型為半球以用于形成附加的接觸部分。
[0058]該支架的下部基座元件60可以被安裝在升降系統(tǒng)上，該升降系統(tǒng)相對于裝置100是可移動的(圖4)。例如，該升降系統(tǒng)可以包括沿著軸線A-A定向的圓柱形狀的實心構(gòu)件110，從而使其可以滑動通過裝置100的底部部分101。彈簧111將構(gòu)件110與支架的下部部分6 —起向上推，直到止動元件112抵靠在該底部部分101上，以避免下部部分6撞上上部部分4。
[0059]從而，通過將該升降系統(tǒng)朝下拉、然后讓彈簧111向上壓下部基座元件60，鏡片5可以被插到該上部部分4和該下部部分6之間。從而鏡片5被夾住，并且這些部分41到43與該鏡片的上面5a接觸，這些指狀物61到63與鏡片下面5b接觸。所有的接觸均為點接觸，但是足夠柔軟而不會擦傷鏡片面5a和5b。優(yōu)選地，與升降系統(tǒng)的彈簧111相比，每個彈簧64的剛度約為三分之一。以此方式，鏡片5可以被固定在裝置100中，以便在軸線A-A上安排任何在面5a內(nèi)的位置，前提是這些接觸部分41到43和這些指狀物61到63位于鏡片5的周邊邊緣5c中(見圖5)。然后，反射測量將在這個位置實施。
[0060]由于這些接觸部分41到43彼此接近，盡管面5a有曲率，鏡片面5a的高度在這些接觸部分之間幾乎是常量。這個高度被上部基座元件40沿著軸線A-A的定位精確地控制。它被設(shè)置成使得光傳送頭3輸出的光束被面5a反射,并且反射光束進入光收集端口 8p,不管入射角α是什么。該上部基座元件40進一步設(shè)置有兩個凹陷44和45，對于入射角α的任何值，都適用于避免入射的光束和反射的光束被該上部基座元件40本身阻止。凹陷44和45可以是被機加工在該上部基座元件40的相對側(cè)面中的凹槽。由于鏡片5的兩個面5a和5b之間沿著軸線A-A的高度的差，還因為在測量位置兩個面5a和5b之間存在可能的非零棱鏡，被面5b向上反射的額外光線部分不會進入光收集端口 Sb，從而使得它不會影響反射的被測值。[0061]另外，任何用于抑制或丟棄傳輸通過鏡片5的這部分光束的方法都可以實施。對傳輸通過鏡片5的光的此類抑制可以參與提高反射測量的精確度。這尤其是對反射束的低強度是比較重要的，例如當(dāng)鏡片5的面5a設(shè)置有減反射涂層時。為了這個目的，可以在下部基座元件60中在其與照射光束側(cè)相對的側(cè)面設(shè)置空隙凹陷65 (見圖3和圖4)。該凹陷65可以是在下部基座元件60中從其上表面和側(cè)面朝向軸線A-A被機加工的凹槽。以此方式，傳輸通過鏡片5并在其第二面5b離開的這部分光束可以傳播通過凹陷65直到被使用任何合適的方式截留、反射離開或丟棄。
[0062]該橫向定位系統(tǒng)7允許在鏡片面5a內(nèi)選擇測量位置。如圖5所示，系統(tǒng)7可以包括兩個抵接段71和72，這兩個抵接段旨在在互相垂直定向的邊緣部分接觸鏡片5的外圍邊緣5c?？梢蕴峁┛潭葮?biāo)尺73和74以用于設(shè)置段71和72?？梢钥蛇x地提供額外的設(shè)置設(shè)備75和直徑標(biāo)尺76以使基于該鏡片的直徑值的鏡片定位更容易。一旦使用設(shè)置設(shè)備75和標(biāo)尺76適當(dāng)?shù)剡x定鏡片5的實際直徑值，段71的設(shè)置允許調(diào)整測量位置與鏡片外圍邊緣5c之間的距離。然后將段72向后放置抵靠在止動件77上。首先用設(shè)置設(shè)備75選擇鏡片直徑的實際值允許可以參照鏡片5的中心點對測量位置進行選擇。因此，參照該鏡片中心或其外圍邊緣5c在鏡片面5a內(nèi)選擇該測量位置是可能的。
[0063]下面描述一種用于使用裝置100測量鏡片5的反射的方法。首先，根據(jù)入射角α的期望值對光傳送頭3和光收集頭8進行設(shè)置。還選擇測量波長窗口。優(yōu)選地，此波長窗口非常窄，以致于可以認為測量是使用單色光進行的。
[0064]獲得具有球面的參照樣品，該球面的曲率值等于鏡片5的平均曲率值。同樣，參照樣品的凹與凸類型與旨在進行反射測量的鏡片5的面5a的一致。該平均曲率值等于沿著與該面平行且互相垂直的兩個方向的鏡片面5a的最大曲率值和最小曲率值之和的一半。當(dāng)鏡片5為漸變式時，當(dāng)在面5a內(nèi)移動測量位置時，該平均曲率值會改變。因此，要對該參照樣品進行選擇，使得其曲率與鏡片面5a在該測量位置的曲率匹配。實際上，該參照樣品的曲率值沒有必要與該鏡片面5a的平均曲率值完全相等。兩個值比較接近就足夠了，例如具有小于I屈光度、優(yōu)選地小于0.5屈光度的差別。為了允許對于任何鏡片使用本發(fā)明方法進行測量，可以提供一系列參照樣品，其對應(yīng)的曲率或曲率半徑增量地變化，例如曲率有
0.25或0.5屈光度的增量。典型地，對于凹的參照樣品，曲率半徑可以從70到160mm變化，并且對于凸的參照樣品從80到760mm變化。這些參照樣品的背面可以涂黑，或者參照樣品的材料可以是吸收光的，以在背面抑制不想要的光束反射。
[0065]參照樣品的反射值R1對于為入射角和波長選定的值是已知的，或者是因為已經(jīng)用另一種方法對其進行測量，或者是因為它可以從提供的表中讀取，或者它可以從參照樣品的材料的光學(xué)折射率計算出來。例如，這種材料可以是冕牌玻璃BK7。
[0066]參照樣品被插在樣品支架的上部部分4和下部部分6之間，并進行反射測量。這會導(dǎo)致傳感器12所檢測到的強度值II。
[0067]然后在樣品支架中用鏡片5替代該參照樣品，并且反射測量會導(dǎo)致傳感器12所檢測到的強度值12。
[0068]然后，該鏡片面5a的反射值可以被計算SR1X 12/110如果該傳感器12輸出的感測信號與光強不成比例，可以用其他的值組合作為替代方案。
[0069]本發(fā)明可以被應(yīng)用于測量每個在被測面上配備有減反射涂層的鏡片的剩余反射。為了這個目的，入射角可以被設(shè)置成小于等于17° (例如15° )，并且測量波長可以從380nm (納米)到780nm變化。
[0070]本發(fā)明的另一種應(yīng)用處理測量鏡片背面上在其外圍邊緣附近UV輻射的反射，例如，用于對UV輻射量進行量化，這些輻射可以起源于鏡片佩戴者后方，在顳側(cè)照射到鏡片背面然后進入該佩戴者的眼睛。對于這個另一個應(yīng)用，入射角可以被設(shè)置為30°或50°，并且測量波長可以從280nm到380nm變化。
【權(quán)利要求】
1.一種支架，其適于用于對眼科鏡片進行反射測量，包括: -上部部分(4)，其包括上部基座元件(40)和三個第一接觸部分(41-43)，這三個第一接觸部分被剛性地安排在該上部基座元件的下端，以便與該鏡片(5)的第一面(5a)在對應(yīng)的基準(zhǔn)位置分別產(chǎn)生三個第一點接觸，這些基準(zhǔn)位置被相對于該上部部分固定地限定； -下部部分(6)，其包括下部基座元件(60)和三個第二接觸部分(61-63)，這三個第二接觸部分的每個被安裝在該下部基座元件上，以便從所述下部基座元件的上端延伸直至超出該下部基座元件的上端對應(yīng)的可變距離，并能夠提供三個第二點接觸；以及 -保持裝置，其用于保持該上部部分(4)和該下部部分(6)，并且該上部部分和下部部分的對應(yīng)的下端和上端面朝彼此，同時將這些第二接觸部分(61-63)朝該上部部分按壓，從而使得該鏡片(5)被固定在這些第一接觸部分(41-43)與所述多個第二接觸部分之間，其中，這三個第二點接觸位于該鏡片的與該第一面(5a)相對的第二面(5b)中； 該上部基座元件(40)具有多個凹陷(44，45)，這些凹陷被設(shè)置在所述上部基座元件的多個相對的側(cè)面中，從而使得在這些凹陷之一中傳播的光束在位于這三個第一點接觸之間的測量位置處照射在該鏡片(5)的第一面(5a)上，并且來自該鏡片的第一面中的測量位置的光束的反射方向穿過這些凹陷中的另一個并從所述另一個凹陷離開。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支架，其中，該下部部分(6)和上部部分(4)圍繞軸線(A-A)定向，該軸線從該上部基座元件(40)的下端朝該下部基座元件(60)的上端延伸，從而使得這三個第一點接觸分別沿著多個與該軸線平行的方向與這三個第二點接觸對齊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的支架，其中，在該上部基座元件(40)的相對側(cè)面中的凹陷(44，45)被設(shè)計成使得照射光束的傳播方向(Dl)與垂直于包含這三個第一點接觸的平面的方向之間的入射角(α )被包括在夾角15°與45°之間?！?br> 4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任意一項所述的支架，其中，該下部基座元件(60)具有空隙凹陷(65)，該空隙凹陷被設(shè)置在所述下部基座元件的側(cè)面中，從而使得傳輸通過被固定在這些第一接觸部分(41-43)與這些第二接觸部分(61-63)之間的該鏡片(5)的光束的一部分在所述鏡片的第二面(5b)處離開后傳播通過該空隙凹陷。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任意一項所述的支架，其中，三個第一接觸部分(41-43)被安排在該上部基座元件(40)的下端，從而使得這三個第一點接觸形成等邊三角形。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任意一項所述的支架，其中，用于保持該上部部分(4)和該下部部分(6)的保持裝置包括升降系統(tǒng)，該升降系統(tǒng)適用于使該下部部分(6)朝該上部部分(4)移動，直到該鏡片(5)被夾持在三個第一接觸部分(41-43)和三個第二接觸部分(61-63)之間，同時限制所述三個第一接觸部分在該鏡片的第一面(5a)上的壓力，并限制所述三個第二接觸部分在該鏡片的第二面(5b)上的壓力。
7.一種反射測量裝置(100)，其包括根據(jù)前述權(quán)利要求中任意一項所述的支架，并進一步包括光源(I)和光強傳感器(12)，并且其中 光傳送端口(3p)連接到用于保持該上部部分(4)和該下部部分(6)的保持裝置，從而使得該光源產(chǎn)生的光束通過該光傳送端口離開，然后傳播通過該上部基座元件(40)的凹陷(44，45)之一并照射到該鏡片(5)的第一面(5a)上去， 光收集端口(8p)也連接到所述用于保持該上部部分和該下部部分的保持裝置，從而使得該光源產(chǎn)生的并被該鏡片的第一面反射的光束穿過該上部基座元件的另一凹陷，然后進入該光收集端口并到達光強傳感器。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，該光源(I)被適配成用于輸出光束，該光束具有連續(xù)分布在280nm到780nm波長范圍上的輻射，并且該裝置(100)進一步包括輻射選擇器(11)，該輻射選擇器被安排成使得該光強傳感器(12)感測限制在選定為280nm和780nm之間的波長窗口內(nèi)的輻射。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的裝置，包括角度設(shè)置系統(tǒng)(102)，該角度設(shè)置系統(tǒng)適合用于使該光傳送端口(3p)和該光收集端口(8p)移動,從而使得照射光束的傳播方向(Dl)與垂直于包含三個第一點接觸的平面的方向之間的、并且也是所述垂直方向與光束被該鏡片(5)的第一面(5a)反射時的傳播方向(D2)之間的入射角(α )被設(shè)置為目標(biāo)值，該目標(biāo)值被選定為在從小于等于17°的較小角度值直至大于等于45°的較大角度值的角度范圍內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7到9中任意一項所述的裝置，進一步包括橫向定位系統(tǒng)(7)，該橫向定位系統(tǒng)適合用于沿著多個垂直于軸線(A-A)的方向設(shè)置該鏡片(5)的橫向位置，該軸線從該上部基座元件(40)的下端朝該下部基座元件(60)的上端延伸，從而使得通過該鏡片橫向位置的設(shè)置將測量位置選定在該鏡片的第一面(5a)內(nèi)，所述橫向定位系統(tǒng)包括至少一個抵接段(71，72)，該抵接段被安排成用于接觸該鏡片(5)的外圍邊緣(5c)并且離測量位置的分離距離是可調(diào)整的。
11.一種用于對鏡片進行反射測量的方法，其使用根據(jù)權(quán)利要求7到10中任意一項所述的裝置，并包括如下步驟: /I/提供一組參照樣品，這些參照樣品具有曲率值已知的球形的對應(yīng)的測量面，每個參照樣品具有已知的反射值并被設(shè)計成使得所述參照樣品的背面不會導(dǎo)致反射輻射；· /2/獲得有待進行反射測量的鏡片(5)，并獲得所述鏡片的要進行反射測量的面(5a)的平均曲率值； /3/選擇這些參照樣品之一，從而使得該選定的參照樣品的曲率值與該有待進行反射測量的鏡片面(5a)的平均曲率值匹配； /4/使用該裝置(100)，并且該選定的參照樣品被固定在支架中，進行第一反射測量并從光強傳感器(12)獲得第一強度值； /5/在支架中用該鏡片(5)替代該參照樣品，并進行第二反射測量并從光強傳感器(12)獲得第二強度值；以及 /6/通過將在步驟/3/中選定的參照樣品的反射值與分別在步驟/4/和/5/中獲得的第一強度值和第二強度值結(jié)合，獲得該鏡片面(5a)的反射值的結(jié)果； 其中，參照樣品的已知反射值和在步驟/4/和/5/中進行的測量涉及同一個入射角(α )值和同一個波長窗口。
【文檔編號】G01B11/24GK103852029SQ201310645973
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2013年12月4日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月4日
【發(fā)明者】O·波菲亞, S·格 申請人:埃西勒國際通用光學(xué)公司